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  • KRI離子源RFICP140濺射沉積半導體IGZO薄膜

KRI離子源RFICP140濺射沉積半導體IGZO薄膜

參考價
360000-1920000
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2023-02-14
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量200
  • 人氣值3619
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位于中國上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,, 是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業(yè),公司注冊資金為200萬美元,到目前為止公司從業(yè)員工有400多人。
伯東企業(yè)(上海)有限公司真空產(chǎn)品事業(yè)部()專業(yè)銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵,干泵,羅茨泵,分子泵;應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規(guī)管);檢漏儀,質(zhì)譜儀,真空系統(tǒng)等等, 維修技術力量雄厚,保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調(diào)整工具和德國Pfeiffer專業(yè)培訓工程師,多年來致力于真空系統(tǒng)的安裝、調(diào)試、維修、拆機、保養(yǎng)等,具有優(yōu)良的專業(yè)技能和服務意識,并獲得原廠*維修資質(zhì)證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產(chǎn)品做*性能測試。另外公司還代理美國Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,HVA 高真空閥門。公司一直堅持品質(zhì)*、信譽*的原則,為廣大客戶提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001-2000質(zhì)量體系認證、ISO14001-1996環(huán)境體系認證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開拓進取的精神,為滿足客戶的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團化發(fā)展。

為將國外的高科技產(chǎn)品與中國經(jīng)濟和社會的飛速發(fā)展緊密結合,為促進國內(nèi).貿(mào)易的快速發(fā)展,伯東企業(yè)(上海)有限公司,以高科技推動現(xiàn)代化,以高質(zhì)量服務全中國, 堅持不懈,奮斗不息。伯東公司是一家專業(yè)代理公司,代理上公司的 半導體設備.接插件.電子器件.精密儀器等,公司秉承 改革.創(chuàng)新.求真.發(fā)展的基本原則, 精心構建誠信、互動、共贏的價值體系, 為所有的客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品, 同時,提供全伯東集團網(wǎng)絡支持下的較早.Z快的信息與Z及時周到的服務,伯東公司愿意與世界各地的客戶聯(lián)手合作,共建一個誠信.發(fā)展.共同進步的良好環(huán)境.

 

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產(chǎn)地進口 加工定制
河北某大學實驗室在研究 IGZO 薄膜的特性試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射沉積半導體 IGZO 薄膜.
KRI離子源RFICP140濺射沉積半導體IGZO薄膜 產(chǎn)品詳情

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

河北某大學實驗室在研究 IGZO 薄膜的特性試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源濺射沉積半導體 IGZO 薄膜.

 

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數(shù):

型號

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

試驗采用射頻(RF)磁控濺射沉積方法在室溫不同壓強下在石英玻璃襯底上制備出高透光率與較好電學性質(zhì)的透明氧化物半導體 InGaZnO4IGZO)薄膜并對薄膜進行X線衍射(XRD)、生長速率、電阻率和透光率的測試與表征.

 

結果表明:

實驗所獲樣品 IGZO 薄膜為非晶態(tài)薄膜最小電阻率為1.3×10^-3Ω·cm, 根據(jù)光學性能測試結果, IGZO 薄膜在 200350nm 的紫外光區(qū)有較強吸收 400900nm 的可見光波段的透過率為75%~97.

 

相比傳統(tǒng)的有以下優(yōu)點:

更小的晶體尺寸設備更輕??;全透明對可見光不敏感能夠大大增加元件的開口率提高亮度降低功耗的電子遷移率大約為比傳統(tǒng)材料進步非常明顯面板比傳統(tǒng)面板有了全面的提升.

 

KRI 離子源的功能實現(xiàn)了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現(xiàn)的.

 

KRI 離子源是領域的領DAO者已獲得許多專LI. KRI 離子源已應用于許多已成為行業(yè)標準的過程中.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口品牌的代理商.

若您需要進一步的了解詳細信息或討論請參考以下聯(lián)絡方式:

上海伯東羅先生           


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