因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)
某半導(dǎo)體廠商為了提高紅外器件 ZnS 薄膜厚度均勻性, 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積設(shè)備鍍制紅外器件 ZnS 薄膜, 并采用動(dòng)態(tài)沉積的方法--樣品臺(tái)離心旋轉(zhuǎn)的方式, 補(bǔ)償或改善圓形磁控靶在正對(duì)的基片上沿徑向的濺射沉積不均勻分布.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
射頻離子源型號(hào) | RFICP380 |
Discharge 陽(yáng)極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
紅外器件金屬膜需要高均勻性的原因:
紅外器件幾乎都要進(jìn)行表面鈍化和鍍制金屬膜, 在紅外焦平面和讀出電路的互連工藝中, 金屬膜的厚度均勻性對(duì)于互連工藝的可靠性起著至關(guān)重要的作用, 而在背照式紅外探測(cè)器的光接收面, 往往都要涂鍍一層或數(shù)層介質(zhì)膜, 以起到對(duì)器件進(jìn)行保護(hù)和對(duì)紅外輻射減反射的作用, 介質(zhì)膜的厚度均勻性同樣會(huì)影響探測(cè)器的濾光和接收帶寬
KRI 離子源的功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.
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上海伯東: 羅先生