型號(hào)(Model) | CRF-APO-500W |
電源(Power supply) | 220V/AC,50/60Hz |
功率(Power) | 2set*1000W/25KHz(Option) |
處理寬幅(Processing width) | 50mm-500mm(Option) |
有效處理高度(Processing height) | 5-15mm |
處理速度(Processing speed) | 0-5m/min |
傳動(dòng)方式(Drive mode) | 防靜電絕緣滾輪 |
噴頭數(shù)量(Number) | 2(Option) |
工作氣體(Gas) | Compressed Air(0.4mpa) |
配置專業(yè)運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái),PLC+觸摸屏控制方式,采用精準(zhǔn)運(yùn)動(dòng)模組,操作簡(jiǎn)便;
可選配噴頭數(shù)量,滿足客戶多元化需求;
配置專業(yè)集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈;
主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;國(guó)防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
冷等離子體裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體愈來(lái)愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng),受電場(chǎng)作用,它們發(fā)生碰撞而形成等離子體,這時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱為輝光放電處理。輝光放電時(shí)的氣壓大小對(duì)材料處理效果有很大影響,另外與放電功率,氣體成分及流動(dòng)速度、材料類型等因素有關(guān)。
不同的放電方式、工作物質(zhì)狀態(tài)及上述影響等離子體產(chǎn)生的因素,相互組合可形成各種低溫等離子體處理設(shè)備。