企業(yè)概要

Company Profile

總部	堀場制作所 HORIBA, Ltd.
董事會成員	集團會長兼 CEO　堀場厚
	副會長兼集團 COO　齊藤壽一
	董事長兼 COO　足立正之
創(chuàng)立	1945年 10月17日
成立	1953年 1月26日
總部	601-8510 京都市南區(qū)吉祥院宮之東町2番地
注冊資本	120.11 億日元 (截至2020年12月31日)
綜合凈銷售額	1870.8 億日元 (至2020年12月31日)　» 投資者相關頁面
員工數(shù)量	8,269 (截至2020年12月31日)
業(yè)務范圍	生產和銷售汽車排放測量系統(tǒng)、環(huán)境測量儀器、種類齊全的科學分析儀、體外診斷分析儀和半導體行業(yè)使用的測量設備等。HORIBA還生產和銷售外圍測量與分析設備。此外，公司還可為實驗室等機構提供用于研發(fā)、生產和其他應用的測量與分析設備
結算日	12月31日
上市	東京證券交易所第1部
日本分部	京都總部、滋賀、東京、宮城、櫪木、茨城、神奈川、靜岡、愛知、大阪、香川、廣島、福岡、熊本
海外分部	奧地利、巴西、加拿大、中國、法國、德國、印度、印度尼西亞、意大利、日本、韓國、波蘭、俄羅斯、新加坡、中國臺灣、泰國、英國、美國、越南

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在比利時、捷克、荷蘭、葡萄牙、俄羅斯、西班牙、瑞典和越南設立分公司
截至2020年12月31日

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產品簡介在線詢價

光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2是通過激光散射方式對曝光工藝中光掩模上的細小顆粒進行檢測的裝置?？蓹z測光掩模圖案面（Pattern Surface）上的zui小粒徑為0.35μm。并且通過線＆空間1.0?1.5μm的圖案識別功能，可以把檢測誤差抑制在zui低限度。

光掩模（Reticle/Mask）顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2-顆粒物監(jiān)測儀產品詳情

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2是通過激光散射方式對曝光工藝中光掩模上的細小顆粒進行檢測的裝置?？蓹z測光掩模圖案面(Pattern Surface)上的zui小粒徑為0.35μm。并且通過線＆空間1.0?1.5μm的圖案識別功能，可以把檢測誤差抑制在zui低限度。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2特征

0.35μm的檢測靈敏度，90%的檢測率。
操作靈活的菜單便于使用。
zui多可直接從多級分類器內的光掩模盒中裝載10片光掩模。
可直接觀察玻璃(Glass)面和圖案(Pattern)面。
便利的數(shù)據(jù)管理便于制做報告。
新信號處理方式有利于減少檢測錯誤。
使用環(huán)境，圖案表面上的污染物的zui小可測粒徑為0.35μm。
通過光掩模寬度1.5μm、線間1.5μm的圖案判別功能，可以把檢測誤差抑制在zui小限度內。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng) PR-PD2應用

在下列工藝中，可以用于細微異物的檢測中。

光掩模制造工藝
1)光掩模坯件上的異物檢測
2)EB中描畫?清洗后的圖案/玻璃面的異物檢測
3)表膜粘貼后的圖案/玻璃/表膜各面的異物檢測
4)粘貼前表膜單體的異物檢測(可選件功能)

曝光工藝
1)光掩模的接收檢査(入庫檢查)
2)曝光前的光掩模例行程序的異物檢測(工藝管理)
3)光掩模的定期異物檢測(工藝管理)

優(yōu)點

在圖案面，0.35μm的異物檢測靈敏度
高速過量地檢測圖案/玻璃/表膜各面
帶有上下面異物觀察功能(觀察倍率多級切換)
可應用于各種縮小投影型曝光裝置盒(適用于多級曝光裝置盒：zui大可達到10級)
各種各樣的檢査條件設定功能和簡便的檢測操作
內置數(shù)據(jù)管理功能，可以輸出各種各樣的報告。
支持GEM通信功能(顧客要求的功能　可選件)
高可靠性、低運營成本

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