光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)PR-PD3
外形小巧、運(yùn)營成本低、應(yīng)用范圍廣光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)PR-PD3系列產(chǎn)品運(yùn)轉(zhuǎn)效率高,具有*穩(wěn)定性,受到眾多半導(dǎo)體制造工廠的高度評價(jià)。繼承了各個(gè)結(jié)構(gòu)簡單、*穩(wěn)定運(yùn)轉(zhuǎn)的搬運(yùn)系統(tǒng),高通過量、可靠性高的光學(xué)系統(tǒng)。以及具有防誤測功能等高性能設(shè)備并巧妙組合成一個(gè)整體的產(chǎn)品就是PR-PD3。和以往的機(jī)型(PR-PD2)相比,它的外形尺寸小了約1/2,追求低運(yùn)營成本。檢測靈敏度達(dá)到0.5μm,具有廣泛通用性。誕生了可以用來滿足光掩模(reticle/mask)上異物檢測這一廣泛需求的簡便裝置。
光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測系統(tǒng)PR-PD3特征
- 和以往機(jī)型相比,設(shè)計(jì)小了1/2左右。 和PR-PD2相比較,底面面積小了1/2,實(shí)現(xiàn)了小巧化。由于占地面積大幅變小,所以即使添加操作裝置(可選件),也可以自由地進(jìn)行布局。
- 實(shí)現(xiàn)了低運(yùn)營成本。 采用激光中具有超群經(jīng)濟(jì)性的氦氖激光,同時(shí),采用了結(jié)構(gòu)簡單的載物臺(tái)搬運(yùn)系統(tǒng)等,大幅度地降低了維護(hù)運(yùn)營成本。
- 有效的防誤測措施。 搭載有粗圖案用的偏振差動(dòng)和細(xì)微圖案用的低通差動(dòng)這二個(gè)功能。通過同時(shí)使用這二種方法,可以有效地防止OPC等具有兩種特性的圖案誤檢測。