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①M(fèi)F-1700Cisanon-standardcustomhightemperatureboxfurnace.MF-1700C是一臺(tái)非標(biāo)定制的高溫箱式爐

主要特點(diǎn)Mainfeatures　　該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)

主要特點(diǎn)　　該款設(shè)備是全自動(dòng)Plasma增強(qiáng)CVD系統(tǒng)(PECVD)

主要特點(diǎn)Mainfeatures:　　Thewholeexperimentalcavityisintheglowgenerationregion

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：1.該設(shè)備爐管可360度旋轉(zhuǎn)，管內(nèi)壁有石英擋片幫助粉料翻轉(zhuǎn)有助于燒結(jié)得更均勻；2.可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35之間

設(shè)備優(yōu)勢(shì)：　　卷對(duì)卷熱壓印-電化學(xué)快速鼓泡轉(zhuǎn)移方法，避免了銅箔刻蝕的常規(guī)轉(zhuǎn)移工藝，實(shí)現(xiàn)了石墨烯從銅箔生長(zhǎng)基底直接向工業(yè)用PET柔性透明塑料基底的連續(xù)化無損轉(zhuǎn)移，...

主要特點(diǎn)　　基于廣大科研界對(duì)實(shí)現(xiàn)大面積單層石墨烯薄膜在工業(yè)銅箔基底上卷對(duì)卷宏量制備的需求,我公司利用一種新型等離子增強(qiáng)卷對(duì)卷連續(xù)快速生長(zhǎng)石墨烯薄膜的方法

設(shè)備簡(jiǎn)介：該設(shè)備為我司研發(fā)用于石墨烯薄膜連續(xù)生長(zhǎng)或者線性材料的連續(xù)的專用設(shè)備

設(shè)備簡(jiǎn)介：該設(shè)備為我司研發(fā)用于石墨烯薄膜連續(xù)生長(zhǎng)或者線性材料的連續(xù)的專用設(shè)備

特點(diǎn)及用途：PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍，...

細(xì)節(jié)展示整機(jī)工作情況整個(gè)管子輝光情況高真空下輝光情況　　PECVD系統(tǒng)　　微型PECVD系統(tǒng)

我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳統(tǒng)PEC...

設(shè)備簡(jiǎn)介我公司研制的滑軌式PECVD系統(tǒng)能使整個(gè)實(shí)驗(yàn)腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光均勻等效，這種技術(shù)很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，這樣離子化的范圍和強(qiáng)度是傳...

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：本設(shè)備主要針對(duì)實(shí)驗(yàn)石墨烯生長(zhǎng)和制備使用，同時(shí)該設(shè)備可以用于碳納米管的生長(zhǎng)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：本設(shè)備主要針對(duì)實(shí)驗(yàn)石墨烯生長(zhǎng)和制備使用，同時(shí)該設(shè)備可以用于碳納米管的生長(zhǎng)

設(shè)備簡(jiǎn)介：該設(shè)備為我司研發(fā)用于材料連續(xù)生長(zhǎng)的專用設(shè)備

主要特點(diǎn)該設(shè)備是由1200度開啟式管式爐、精密的質(zhì)量流量控制系和真空系統(tǒng)所組成

大面積CVD石墨烯生長(zhǎng)設(shè)備