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安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司
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微型PECVD系統(tǒng)

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地合肥市

聯(lián)系方式:董經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間:2023-05-16 07:57:55瀏覽次數(shù):99次

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細節(jié)展示整機工作情況整個管子輝光情況高真空下輝光情況  PECVD系統(tǒng)  微型PECVD系統(tǒng)

  細節(jié)展示

 微型PECVD系統(tǒng)
 
 微型PECVD系統(tǒng)
 
 整機工作情況
整個管子輝光情況
高真空下輝光情況

 

  PECVD 系統(tǒng)

  微型PECVD系統(tǒng),它包括小型真空管式爐,石英真空室、真空抽氣與真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)、物料噴射系統(tǒng)。電源范圍寬:0-150W可調(diào); 溫度范圍寬:100-1200度可調(diào);濺射區(qū)域?qū)挘?-600mm可調(diào);適用范圍寬:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,連續(xù)生長各種薄膜等。增加功能容易,可擴展等離子清洗刻蝕等功能。

  主要特點

  1. 薄膜沉積速率高:采用了甚高頻技術(shù),大大的提高了薄膜的沉積速率,沉積速率可達10Å/S;

  2. 大面積均勻性高:采用了*的多點射頻饋入技術(shù),特殊氣路分布和加熱技術(shù)等,使得薄膜均勻性指標達到8%;

  3. 一致性高:用半導體行業(yè)的*設(shè)計理念,使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;

  4. 工藝穩(wěn)定性高:高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定;

  5. 選配物料噴射系統(tǒng),可將原料直接噴射到反應(yīng)區(qū);

  6.號:ZL.0 (產(chǎn)品,防偽必究)。

 1.加熱系統(tǒng)

溫度

1200

使用溫度

≤1100

爐膛有效尺寸

Φ80mm(適用于2-3英寸樣品,爐管直徑可根據(jù)實際需要定制。)

爐膛材料

氧化鋁、高溫纖維制品

熱電偶類型

K型熱電偶

控溫精度

±1

控溫方式

30段可編程控溫,PID參數(shù)自整定

加熱長度

230mm

加熱原件

電阻絲

供電電源

單相,220V50Hz

 

2、PE系統(tǒng)

功率輸出范圍

0W~150W

射頻輸出接口

50 Ω, N-type, female

功率穩(wěn)定度

≤5W

諧波分量

≤-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ

整機效率

>=70%

功率因素

>=90%

冷卻方式

強制風冷

3、三路質(zhì)子流量控制系統(tǒng)

連接頭類型

雙卡套不銹鋼接頭

標準量程(N2)

200sccm,500sccm、1000sccm

(可根據(jù)用戶要求定制)

準確度

±1.5%F.S

線性

±1%F.S

重復精度

±0.2%F.S

響應(yīng)時間

氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍

0.1~0.5 MPa

壓力

3MPa

接口

Φ6,1/4''

顯示

4位數(shù)字顯示

工作環(huán)境溫度

5~45高純氣體

壓力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止閥

Φ6

內(nèi)外雙拋不銹鋼管

Φ6

4、低真空機組

空氣相對濕度

≤85%

工作環(huán)境

5℃~40℃

工作電電壓

220V±10%  50~60HZ

功率

1KW

抽氣速率

10m³/h

極限真空

5X10-1Pa

工作壓力范圍

1.01325X105~1.33X10-2Pa

耐壓值

0.03MPa

容油量

1.1L

進氣口口徑

KF25

排氣口口徑

KF25

噪音

50dB

連接方式

采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連

 

 

 

 

  

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