K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續(xù)的碳膜,并且使用渦輪分子泵時無污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜,以及SEM中的導(dǎo)電涂層。
在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續(xù)的。zui通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達(dá)到zui大電流密度,使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)?;谶@點,出現(xiàn)了細(xì)小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴(kuò)散泵或渦輪分子泵達(dá)到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標(biāo)準(zhǔn)配置,此泵作為機(jī)械真空泵的后級泵,真空為全自動控制,真空度優(yōu)于1x10-5 mbar??蛇M(jìn)行預(yù)熱及除氣控制,同時用瞬時蒸發(fā)開關(guān)使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進(jìn)行。
標(biāo)準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺可進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié),非常容易適應(yīng)各種樣品座??蛇x的樣品臺具有特殊的凹槽,可放置標(biāo)準(zhǔn)的載玻片,這在“石棉分析”需要鍍碳層時尤為有利。
碳棒頭在儀器中作為標(biāo)準(zhǔn)件。這是一個“快速釋放頭”,使用戶在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統(tǒng)具有互鎖裝置,避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上,并且可安全地“關(guān)閉”直接通大氣。
優(yōu)點 ● 容易操作 ● 均勻的樣品涂層 ● 方便多用戶操作 ● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬 ● 在排氣過程中可防止樣品損壞 ● 碳棒或碳絲蒸發(fā) |
特點 ● 全自動抽氣系統(tǒng) ● 旋轉(zhuǎn)樣品臺 ● 菜單驅(qū)動式“用戶”鍵盤輸入 ● 快速釋放頭方便選擇不同的頭 ● 約束的排氣控制 ● 渦輪分子泵抽真空 |
技術(shù)規(guī)格
儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量:28Kg
工作腔室:硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩:聚碳酸酯
鋁機(jī)座:110mm Dia x 115mm H
碳 源:直徑3.2mm碳棒
旋轉(zhuǎn)樣品臺:直徑為60 mm,傾斜0-90o
到電極距離為110mm 到 130mm
真空計范圍:ATM - 1x10-5 mbar
操作真空:1x10-2 to 1x10-5 mbar
安培計:0-50 Amps
低電壓選擇:0-5V-15V-25V
除氣電流:0-25 Amps
渦輪分子泵:50L/Second
Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr
電源:230V 50Hz (包括泵zui大電流8 安培);115V 60Hz(包括泵zui大電流16 安培)