K575X使用“渦輪”泵,前級為旋片式機械泵,整個抽真空過程為自動控制。
真空度可調(diào)整,以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬,以及金靶等不同材料要求,定時器可設(shè)置成不同的濺射時間。
本系統(tǒng)裝配了磁控管靶,靶面直徑為54 mm,可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷,可得到高性能、精細顆粒的涂層(無需水冷卻)。
濺射時參數(shù)可預設(shè),包括氣體放氣電磁閥。
K575d(雙頭)其它與K575X相同,只是具有兩個濺射頭。在進行特殊涂層的應(yīng)用時,不需要打開真空即可進行兩層沉積濺鍍。
注:K575d技術(shù)規(guī)格與K575X相同,但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷,對于比較厚的沉積,通常用K575d(雙頭)單元,它需要用水冷卻。
● 全自動控制
● Peltier冷卻濺射頭
● 精細鍍層(0.5nm Cr粒子)
● 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標準配置
● 薄膜沉積(典型為5nm)
● 直徑為165mm腔室
● 可選雙濺射頭
● 可接膜厚測控儀
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技術(shù)規(guī)格
儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩:聚碳酸酯
基座: 110 mm直徑x 115mm高
重量:42公斤
靶:54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標準靶材)
樣品臺:60mm直徑,具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺
真空范圍:ATM-1x10-5 mbar
操作真空:1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar
濺射電流:0-150mA
沉積速率:0-20nm/分
濺射定時: 0-4 分鐘
渦輪分子泵:60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar)
Services - Argon - Nominal 10 psi;
Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
電源:230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為6安培)
115 伏 60Hz(包括泵zui大電流為12安培)