| 用途： XQ15-G1激光平面干涉儀可廣泛用于工廠的計(jì)量室、光學(xué)車間和科研院所的實(shí)驗(yàn)室。光學(xué)平面的平面度測(cè)量、光學(xué)平板的微小楔角測(cè)量、光學(xué)材料均勻性測(cè)量、光學(xué)薄板波前誤差的測(cè)量。 特點(diǎn)： 防震性能好、有的條紋鎖定度、視場(chǎng)清晰、生產(chǎn)場(chǎng)所可用性優(yōu)于市場(chǎng)同類產(chǎn)品，大容量的工作室為大批量生產(chǎn)企業(yè)的大鏡面檢測(cè)提供了方便。 技術(shù)參數(shù)： 標(biāo)準(zhǔn)平面（A面），工作直徑D1=Φ146mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20) 第二標(biāo)準(zhǔn)平面（B面），工作直徑D2=Φ140mm，平面的面形偏差小于0.03μm(λ/20) 準(zhǔn)直系統(tǒng)----------------－工作直徑Φ146mm，焦距 f = 400mm 光源規(guī)格----------------－激光ZN18(He-Ne) 干涉室尺寸----------------Φ480×380×285mm |
| 選配件一： 精密升降工作臺(tái)（適用GⅠ、GⅡ型） 用途：主要用于平晶、平行平晶等非鍍膜面高精度平面度的測(cè)量與檢定以及儀器采用鈉光或汞光照明時(shí)的測(cè)量。 |
| 選配件二： 透檢工作臺(tái)（適用GⅠ型） 用途：主要用于超薄平行平板的波前誤差測(cè)量、光學(xué)平板微小楔角相對(duì)干涉測(cè)量以及光學(xué)材料折射率均勻性的偏差判斷。 | ||||||||||||||||
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| 選配件三： 高反射面測(cè)量工作臺(tái)（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型） 用途：主要用于鍍反射膜及高折射率材料（如硅、鍺等材料）表面精度的測(cè)量與檢定。 | ||||||||||||||||
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| 選配件四： 顯示監(jiān)控系統(tǒng)（適用GⅠ型） 用途：顯示監(jiān)控系統(tǒng)的應(yīng)用，可減輕操作者的勞動(dòng)強(qiáng)度，并可實(shí)施多人判讀與分析，以達(dá)到教學(xué)與監(jiān)控的目的。 | ||||||||||||||||
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| 選配件五： 計(jì)算機(jī)影像系統(tǒng)（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型） 用途：影像系統(tǒng)的應(yīng)用，可將被檢測(cè)鏡面的原始資料通過(guò)計(jì)算機(jī)保存和傳輸，以達(dá)到資料存檔及遠(yuǎn)程監(jiān)控、驗(yàn)收評(píng)定質(zhì)量的目的。 | ||||||||||||||||
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| 選配件六： 倍率成像測(cè)微系統(tǒng)（適用GⅠ、GⅡ、GⅢ型） 用途：主要用于目視精確量值的索得及小型被測(cè)件干涉條紋按要求放大測(cè)量與判讀。 技術(shù)參數(shù)： 測(cè)微目鏡放大率15X 倍率成像測(cè)微目鏡適用范圍見(jiàn)下表：
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