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  • 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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  • 型號(hào)
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  • 更新時(shí)間2024-08-10
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量167
  • 人氣值260
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上海德竹芯源科技有限公司是一家專注于功率器件、光電器件、射頻器件、量子器件、MEMS傳感器領(lǐng)域的設(shè)備銷售、系統(tǒng)集成、設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的公司。主要為高校、研究所、中試量產(chǎn)線及晶圓FAB廠提供半導(dǎo)體工藝設(shè)備、檢測(cè)設(shè)備、封裝設(shè)備、測(cè)試設(shè)備。目前公司已成為國(guó)內(nèi)少數(shù)幾家專業(yè)提供半導(dǎo)體工藝、檢測(cè)、封裝、測(cè)試整體解決方案的企業(yè)。公司主要成員為復(fù)旦大學(xué)、上海微系統(tǒng)所等半導(dǎo)體相關(guān)專業(yè)博士,擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過(guò)硬的團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前售中、售后的服務(wù)。目前公司已與眾多國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)建立了良好的合作關(guān)系(如:EVG、SAWNATEC、SENTECH、PICOSUN、SYSKEY、 Mavemn Panalyrical、PHL-CHINA、TEMPRESS,ROHDE&SCHWARZ、MPI等),致力于根據(jù)用戶的科研方向和量產(chǎn)的器件類別提供相應(yīng)的全套設(shè)備選型和工藝整體解決方案。
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是一種利用等離子體為沉積反應(yīng)提供能量的化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。PECVD可替代傳統(tǒng)CVD在較低的溫度下沉積各種薄膜,且能保證較高的薄膜質(zhì)量。
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD

Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition - ICPCVD

PECVD技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用比其他CVD技術(shù)更為廣泛。PECVD可以在較低的工作溫度(小于350°C下沉積均勻的氧化硅(SiO2)和氮化硅(Si3N4)薄膜,石墨烯薄膜等,CVD技術(shù)相比于PVD技術(shù)具備更好的階梯覆蓋性和孔隙高填充特性。SYSKEY的系統(tǒng)能精確控制反應(yīng)壓力和襯底溫度等關(guān)鍵工藝參數(shù)以制備出高質(zhì)量的薄膜。平板式等離子體源適用于制備氧化硅(SiO2)和氮化硅(Si3N4)薄膜,平板電極也可以用ICP線圈替代,產(chǎn)生的高密度等離子體可實(shí)現(xiàn)二維材料沉積。

ICP-CVD原理示意圖

二維材料鍍膜目前研究和應(yīng)用比較火熱。矽碁科技在ICP-CVD的基礎(chǔ)上,針對(duì)二維材料開(kāi)發(fā)出適用于石墨烯生長(zhǎng),硫系、硒系二維材料生長(zhǎng)設(shè)備,可實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)二維材料制備。

ICP-CVD石墨烯鍍膜

ICP-CVD硫化/硒化鍍膜

應(yīng)用領(lǐng)域:

SiOx、SiNx、α-Si薄膜

DLC超硬鍍膜

有機(jī)顯示、有機(jī)鈣鈦礦太陽(yáng)能電池領(lǐng)域薄膜封裝

CIGS太陽(yáng)能電池硒化

醫(yī)療領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品

二維材料鍍膜(Graphene, MoS2, MoSe2, WS2, WSe2等)


應(yīng)用展示:









配置特點(diǎn):

可加載 12 英寸直徑的晶圓

薄膜均勻度優(yōu)于±5%

最多 10 路氣體管路,質(zhì)量流量精確控制

基板可加熱至 700°C,根據(jù)工藝制程定制

直接電容耦合等離子體(平板式)、遠(yuǎn)程電容耦合等離子體(CCP)、電感耦合等離子體(ICP)

可配備等離子體自清潔功能

可選配單片或多片加載腔

可與手套箱集成,也可以與其他CVD設(shè)備集成

關(guān)鍵詞:手套箱
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