優(yōu)點(diǎn)
操作簡(jiǎn)單
● 無(wú)論您是在分析一個(gè)薄膜樣品、有機(jī)聚合物、一個(gè)大的塑料鏡片、不銹鋼刀片或焊錫球等，儀器所有的設(shè)置和設(shè)定都是相同的。操作者只需用鼠標(biāo)在樣品的光學(xué)圖像上單擊選擇一個(gè)或多個(gè)分析區(qū)域，打開儀器的雙光束中和系統(tǒng)和自動(dòng)Z-軸高度調(diào)整功能，就可通過(guò)儀器軟件的自動(dòng)隊(duì)列（Add Q）執(zhí)行所有分析。整個(gè)操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因樣品成分不一致而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊，一切的操作都可自動(dòng)完成。
圖1 - 全自動(dòng)無(wú)人值守，分析無(wú)憂的XPS Quantera II
薄膜分析
● Quantera II 不僅提供了無(wú)機(jī)薄膜樣品良好的深度剖面分析性能，而且也可利用 C60 離子槍對(duì)有機(jī)薄膜得出非常的深度分析結(jié)果。
圖2 - (左) 以2 keV 氬離子濺射源對(duì)一個(gè)半導(dǎo)體封裝的錫球表面進(jìn)行深度分析；
(右) 使用10 keV C60離子源，對(duì)50/50 Rapamycin和PLGA的薄膜進(jìn)行深度分析。
掃描 XPS探針
● PHI Quantera II 使用了聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽(yáng)極上所產(chǎn)生的，由此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會(huì)再透過(guò)橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當(dāng)電子束掃描在鋁陽(yáng)極上時(shí)，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會(huì)作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為 7.5 微米以下到 400 微米以上。
圖3 - (a) PHI 的聚焦掃描X射線源說(shuō)明。(b) 使用Quantera II 對(duì)MRS-3標(biāo)樣所生的二次電子像，可見
以Quantera II 可以分析到約直徑為6微米區(qū)域的功能。
微區(qū)光譜
● 以下圖5中聚合物表面異物樣品為例。在光學(xué)顯微鏡下，透明的聚合物薄膜表面上未發(fā)現(xiàn)有任何污染物。而使用二次電子影像時(shí)就立即顯示了聚合物表面上污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II 儀器就可利用一個(gè)直徑為 20 微米的X射線束對(duì)污染物成分進(jìn)行分析，從而確定為氟碳污染物。
圖4 - Quantera II的污染分析。(a) 二次電子成像。(b) 多點(diǎn)采譜分析。(c) 碳 1s的圖譜。 (d) 元素分布圖（留意分布中右邊較小點(diǎn)的污染不含有氟或碳）。 (e) 對(duì)較小的污染做點(diǎn)分析，使用7.5微米的X射線束確定了第二污染物含有鋅的存在。
特點(diǎn)
● X射線探針 ≤ 5 微米的空間分辨率
● 高靈敏度的靜電檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)
● 雙束中和系統(tǒng)
● 自動(dòng)化的樣品傳輸處理
● 儀器可容納樣品直徑為 100 毫米，高度為 25 毫米
● 兩個(gè)內(nèi)部樣品平臺(tái)暫停區(qū)
● 高性能的離子槍
● 高速的深度分析
● 元素態(tài)或化學(xué)態(tài)的XPS成像
● 自動(dòng)角分辨分析
● PHI MultiPak 數(shù)據(jù)處理軟件
可選配件
● 樣品定位系統(tǒng) (SPS)
● 熱/冷樣品臺(tái)
● 冷樣品引入裝置
● 樣品傳輸管和外部測(cè)試站
● C60 離子槍
● Ar2500 GCIB 離子槍
應(yīng)用范圍
● 化學(xué)：化學(xué)涂料，聚合物，催化劑
● 材質(zhì)：金屬，薄膜，納米材料
● 電子：半導(dǎo)體，磁盤，微電子技術(shù)和顯示技術(shù)
● 生物醫(yī)學(xué)與生物醫(yī)學(xué)設(shè)備
