公司介紹
德國HP Spectroscopy公司成立于2012年,致力于為科研及工業(yè)領(lǐng)域的客戶定制解決方案,是科學(xué)儀器的供應(yīng)商和開發(fā)商。產(chǎn)品線包括XAS系統(tǒng),XUV/VUV/X-ray光譜儀,beamline產(chǎn)品等。主要團(tuán)隊(duì)由x射線、光譜、光柵設(shè)計(jì)、等離子體物理、beamline等領(lǐng)域的專家組成。并與的研究機(jī)構(gòu)的科學(xué)家維持緊密合作,關(guān)注前沿技術(shù),保持產(chǎn)品的迭代與創(chuàng)新。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
攝譜儀和單色儀功能
具有效率的光柵
波長范圍為1 ~ 200nm
高精度波長設(shè)置
緊湊、模塊化設(shè)計(jì)
得益于其無縫設(shè)計(jì),maxLIGHT pro可提供同品類光譜儀中的集光量和的效率。經(jīng)像差校正的平場(chǎng)波長范圍可覆蓋1nm至200nm的寬光譜帶寬,比如,單個(gè)光柵可覆蓋5-80nm。
其模塊化設(shè)計(jì)能夠匹配不同的實(shí)驗(yàn)配置。它具有集成的狹縫支架和濾光片插入單元,以及電動(dòng)光柵定位。
靈活完善的探測(cè)器配置選項(xiàng)
nXUV CCD——高分辨高動(dòng)態(tài)范圍應(yīng)用
MCP/CMOS——寬光譜范圍、門控或像增強(qiáng)探測(cè)需求可根據(jù)用戶要求進(jìn)行定制
無縫設(shè)計(jì)
HPS公司專有的光譜儀設(shè)計(jì)使用光源直接成像技術(shù)。 因此,不需要狹窄的入口狹縫,并且可以地收集入射光。 與傳統(tǒng)的光譜儀架構(gòu)相比,到達(dá)探測(cè)器的光強(qiáng)會(huì)高出20倍。 該結(jié)構(gòu)還極大地提高了日常操作的穩(wěn)定性。
測(cè)量結(jié)果
在使用阿秒XUV脈沖的符合光譜應(yīng)用中,通過maxLIGHT XUV(左圖)對(duì)HHG進(jìn)行表征。 高次諧波源自單光子躍遷(藍(lán)色箭頭),而XUV和IR光的雙光子躍遷則呈現(xiàn)為光電子譜的邊帶(右圖)。 J. Vos et al, Orientation-dependent stereo Wigner time delay and electron localization in a small molecule Science 360 1326-1330 (2018) | |
通過maxLIGHT XUV測(cè)量的HHG光譜(右圖)和25fs基頻光脈沖在kagomé光子晶體光纖中寬化的光譜(左圖)。隨著泵浦能量的增加,孤子藍(lán)移對(duì)HHG的影響清晰可見。 F. Tani et al, Continuously wavelength-tunable high harmonic generation via soliton dynamics Opt. Lett. 42 1768-1771 (2017) | |
在相同的信號(hào)強(qiáng)度下,與標(biāo)準(zhǔn)光譜儀(虛線)相比,maxLIGHT pro光譜儀(實(shí)線)的分辨率明顯更高。要獲得等價(jià)的光譜分辨率,傳統(tǒng)光譜儀技術(shù)需要設(shè)置窄狹縫,從而顯著降低信號(hào)強(qiáng)度。 C. Hauri et al, High-Harmonic Radiation for seeding the Swiss Free Electron Laser | |
用maxLIGHT XUV獲得的150kHz重頻下截止區(qū)域內(nèi)的HHG光譜。CEP的變化顯示出在某些CEP設(shè)置下強(qiáng)度調(diào)制開始消失,表明了獨(dú)立阿秒脈沖的存在。 M. Krebs et al, Towards isolated attosecond pulses at megahertz repetition rates Nature Photonics 7 555–559 (2013) | |
參考光譜示例證明了maxLIGHT光譜儀的分辨能力。如圖所示為飛秒激光脈沖和固體靶相互作用后,經(jīng)濾光片過濾后的高次諧波譜。諧波產(chǎn)生過程中所固有的精細(xì)結(jié)構(gòu)譜可以被maxLIGHT光譜儀清晰地分辨出來。圖片上半部分:由 X 射線 CCD 相機(jī)記錄的原始圖像。 圖片下半部分:通過列合并獲得的諧波譜。 L. Waldecker et al, Focusing of high order harmonics from solid density plasmas Plasma Phys. Control. Fusion 53 124021 (2011) |
技術(shù)參數(shù)
Topology類型 | 像差校正平場(chǎng)光譜儀和光束分析儀 | ||
波長范圍 | 1-200nm | ||
光源距離 | 可根據(jù)用戶實(shí)際光路靈活調(diào)整 | ||
探測(cè)器類型 | CCD or MCP/CMOS | ||
真空兼容度 | <10-6mbar(UHV超高真空版可定制) | ||
無狹縫技術(shù) | 含 | ||
入射狹縫 | 可調(diào) | ||
光柵定位 | 閉環(huán)電控臺(tái) | ||
濾光片插入裝置 | 含 | ||
控制接口 | USB 或 Ethernet | ||
軟件 | Windows UI and Labview/VB/C/C++ SDK | ||
定制化 | 可根據(jù)需求定制 | ||
可選項(xiàng) | 非磁性,旋轉(zhuǎn)幾何,偏振測(cè)量等 | ||
SXR | XUV | VUV | |
波長范圍 | 1-20nm | 5-80nm | 40-200nm |
色散能力 | 0.2-0.4nm/mm | 0.5-1.3nm/mm | 0.9-1.6nm/mm |
分辨率 | <0.015nm at 10nm | <0.028nm at 40nm | <0.05nm at 120nm |
應(yīng)用
高次諧波發(fā)生源
阿秒科學(xué)
激光與物質(zhì)強(qiáng)烈的相互作用
自由電子激光
激光和放電產(chǎn)生的等離子體源
x射線激光
激光驅(qū)動(dòng)二次源