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ALD-02ALD-02原子層沉積系統(tǒng) ALD

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2023-07-03
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 產(chǎn)品數(shù)量69
  • 人氣值286
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司,是業(yè)從事科學(xué)儀器代理及實(shí)驗(yàn)室整體配套方案制定的商貿(mào)服務(wù)公司。主要經(jīng)營基礎(chǔ)性實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,包括:分析、計量、生化、環(huán)保、物性、電工等儀器。我們長期為高校、藥廠、藥檢局、、食廠、環(huán)境監(jiān)測站等科研單位和企事業(yè)單位提供站式的儀器采購服務(wù),旗下非利加實(shí)業(yè)儀器平臺()為廣大科研采購人員提供個站式購買平臺,讓廣大科研和采購人員實(shí)現(xiàn)“次光顧,買齊所有”。同時也將依據(jù)市場調(diào)研結(jié)果,不斷篩選出更多優(yōu)質(zhì)經(jīng)典的實(shí)驗(yàn)室儀器,為廣大用戶提供更優(yōu)質(zhì)產(chǎn),更全面便捷的服務(wù)。讓選購實(shí)驗(yàn)室儀器變得簡單高效是我們直努力的方向,客戶的滿意是我們堅持不懈的目標(biāo),我們直以合理的價格,過硬的質(zhì)量,個性化的服務(wù)努力與新老客戶朋友們共創(chuàng)雙贏。
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詳細(xì)內(nèi)容ALD-02原子層沉積系統(tǒng)ALD產(chǎn)品特點(diǎn)產(chǎn)品參數(shù)產(chǎn)品介紹TheAdvancedALDsystemisaviscousflow-typereactorforultrathinfilmdeposition
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 ALD-02原子層沉積系統(tǒng) ALD
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產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品介紹
The Advanced ALD system is a viscous flow-type reactor for ultra thin film deposition. The growth process is controlled by a Windows-based software package. The base model is equipped with two gas lines and handles wafer size up to 12 ". With a compact footprint, all hardware is enclosed in a negative pressure cabinet for safety more information.
 
 
產(chǎn)品參數(shù)
Operation Vacuum: 1 Torr to UHV 
2 Heated Gas Lines (can be expanded to 12)
Gas injection mode: bubbler and direct draw
Sample size: up to 4 in standard, optional 12in
Substrate heater: up to 500°C, optional higher temp
 
 
產(chǎn)品介紹
Applications
High k dielectrics
Nanocoatings
Surface modification layers
Device encapsulations
Photonic crystals
Optional add-on components
Remote plasma source
Ozone delivery system
Quartz crystal monitor
Quadruple mass spectrometer
Real-time temperature monitor
Ellipsometer
LoadLock

      
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