詳情介紹：
特殊長度
- 可以在紫外可見光（300-800 nm）波長范圍內(nèi)測量橢偏參數(shù)。
- 可以進(jìn)行納米級的多層薄膜厚度分析
- 通過多通道光譜儀可快速測量橢圓偏振光，可測量400通道或更多通道
- 通過可變反射角測量支持對薄膜的詳細(xì)分析
- 通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫并添加配方注冊功能來提高可操作性。
測量項目
- 橢偏參數(shù)（tanψ，cosΔ）測量
- 光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
- 膜厚分析
測量目標(biāo)
- 半導(dǎo)體晶片
柵極氧化物薄膜，氮化物膜
SiO 2，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al 2 O 3，SiN x O y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光學(xué)常數(shù)（波長色散）抵抗 - 化合物半導(dǎo)體
Al x Ga （1-x）作為多層膜，非晶硅 - FPD
取向膜 - 各種新材料
DLC（類金剛石），超導(dǎo)薄膜，磁頭薄膜 - 光學(xué)薄膜
TiO 2，SiO 2，減反射膜 -
在每個波長下的光刻場n，k評估，例如g線（436 nm），h線（405 nm），i線（365 nm）
- 產(chǎn)品信息
- 原則
- 規(guī)格
- 測量例
相關(guān)信息
相關(guān)產(chǎn)品
| | 反射光譜膜厚儀FE-3000 |
| | 膜厚計FE-300 |
| | 嵌入式膜厚監(jiān)測儀 |
| | 多通道光譜儀MCPD-9800 / 6800 |
| | 光譜干涉晶圓測厚儀SF-3 |
