IB-19520CCP 截面樣品制備裝置 IB-19520CCP在加工過程中利用液氮冷卻,能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下,也能將樣品快速冷卻、恢復(fù)到室溫,并且可以拆卸。
★ 冷卻的效果 樣品:鍍鋅鋼板
可提供500μm/h(8KV/2小時(shí)的平均值)的研磨速率。
Specimen: Galvanized iron steel
※ 通常加工(無冷卻)時(shí),鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙,而冷卻加工時(shí)則沒有間隙
★ 使用溫度控制系統(tǒng)(選配件)冷卻 樣品:硅晶片接合面
Normal milling Cooling Cooling temperature control
(without cooling) (holder temperature -150℃) (holder temperature -20℃)
Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV Accelerating voltage 6kV※ 常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形,出現(xiàn)了很大的間隙。 -150 ℃時(shí),冷卻過度,能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙,但通過溫度控制冷卻則沒有間隙。
★ 合理利用間歇加工、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備
★ 進(jìn)程監(jiān)控功能
截面加工狀態(tài)可通過CCD相機(jī)實(shí)時(shí)監(jiān)控,倍率還可調(diào)整。
★ 防止充放電的噴鍍功能
備有離子束濺射功能(選配項(xiàng))
可以噴涂顆粒感良好的薄涂層。
適合于象EBSD等需要花樣識(shí)別等情況。★ 平面離子減薄樣品架
以小角度的離子束低角度照射樣品,達(dá)到清除表面污垢、平滑表面等效果。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。★ 截面樣品制備單元
安裝在平面離子減薄樣品架上使用。該單元可用于在旋轉(zhuǎn)樣品的同時(shí)進(jìn)行離子束加工。
可以用來制備象多孔質(zhì)材料、粉末、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面。
離子加速電壓 | 2 ~ 8 kV |
離子束直徑 | 500 um( FWHM) |
研磨速率 | 500 um(兩小時(shí)的平均值、8 kV、硅材質(zhì)換算、突出量:100 um) |
樣品架冷卻達(dá)到的溫度 | -120 ℃ |
樣品冷卻持續(xù)時(shí)間 | 8小時(shí)以上 |
制冷箱容量 | 約1升 |
承載樣品的尺寸 | 11mm(長(zhǎng)) × 8mm(寬)× 3mm(厚) |
樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | X軸:±6mm、Y軸:±2.5mm |
固定樣品方法 | 夾式 |
樣品加工擺角 | ±30° |
加工觀察用相機(jī)的倍率 | 約20~100倍(6.5寸顯示器上) 機(jī)械泵: 150 mm(寬) × 427 mm(長(zhǎng)) × 230 mm(高)、約16 kg |
空氣隔離系統(tǒng) | 轉(zhuǎn)移艙 |
空氣隔離法 | 將艙內(nèi)設(shè)定成氬氣氣氛,蓋上轉(zhuǎn)移艙蓋子,將樣品封在艙里。 |
操作方法 | 觸控屏、6.5寸顯示器 |
使用氣體 | 氬氣(用質(zhì)量流量控制器控制流量) |
壓力測(cè)試 | 潘寧真空計(jì) |
主抽真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵 |
輔助抽真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 |
尺寸、重量 | 主機(jī):約670mm (寬) × 720mm(長(zhǎng)) × 530mm(高)、約73kg 機(jī)械泵:約150 mm (寬) × 430 mm(長(zhǎng)) × 230 mm(高)、約16kg |
選配件 | 大型旋轉(zhuǎn)樣品架(IB‐11550LSRH)、(IB‐11550LSRH) 基座樣品架 (IB‐11560MBSH) 大型樣品架(IB-11570LSH) 噴碳樣品架(IB-12510CCH) |
電源 | 單相100~120 V±10%、50/60 Hz、0.6 kVA |
接地線 | 獨(dú)立地線(100 Ω以下) |
氬氣 | 使用壓力:0.15±0.05 MPa(1.0 ~ 2.0 kg/cm2) 純度99.9999%以上(氬氣、氣瓶及調(diào)壓器由客戶自備) 金屬配管連接口:JISB0203 RC1/4 |
室溫 | 15~25 ℃ |
濕度 | 60%以下 |