ULVAC愛發(fā)科多腔濺射設(shè)備Entron EX W300是在Al、Cu、高熔點(diǎn)金屬布線工序中有很多實(shí)績的單片式多室對應(yīng)平臺。適應(yīng)下一代流程的SIS(Self-Ion Sputter)-PVD、金屬CVD/ALD、DRY預(yù)處理模塊的組合且可提供性價(jià)比。
特點(diǎn):
基于我們傳統(tǒng)型號 ENTRON-W300 / W200 系列的型號,改進(jìn)主要旨在提高生產(chǎn)力。
最多可安裝 8 個工藝(PVD、ALD、CVD 等),外加 2 個(脫氣、冷卻)模塊。
配備我們的新型搬運(yùn)機(jī)器人,機(jī)械吞吐量達(dá)到 100wph 或更高。
我們提供專用工藝或小型晶圓廠的 S 型(單一型)和支持大型晶圓廠的 T 型(串聯(lián)型),并靈活應(yīng)對客戶的生產(chǎn)計(jì)劃。
可配備監(jiān)控和管理設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)的ED-PMS系統(tǒng)和非接觸式膜厚測量設(shè)備MESEC-BIT。