ULVAC CS-200系列磁控濺射鍍膜設(shè)備是一款追求低成本和用戶友好操作的磁控濺射設(shè)備,通過增加配有機(jī)械手d裝載固定腔室(Load lock chamber)使在上下基板時(shí)工藝腔室仍保持真空。
主要技術(shù)參數(shù):
適用于小于8inch的各種基板;
配備300℃的基本加熱裝置,可選配600℃的基本加熱裝置;
可選配RF源;
膜厚均勻性好于±5%;
佳鼎半導(dǎo)體提供半導(dǎo)體加工設(shè)備現(xiàn)貨供應(yīng)服務(wù),包括ASML、Nikon光刻機(jī)、愛發(fā)科刻蝕設(shè)備、蒸發(fā)鍍膜設(shè)備、沉積設(shè)備等等。