儀器名稱：全自動(dòng)離子濺射儀 型號(hào)：ETD-800
原理：二極直流濺射
儀器名稱：離子濺射儀 型號(hào)：ETD-900M
原理：磁控濺射
在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動(dòng)，其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng)，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí)，經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過(guò)熱。
主機(jī)規(guī)格：260mm×307mm×260mm（W×D×H）
電源規(guī)格：220V/50HZ
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au
真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm（D×H）
定時(shí)器： 最長(zhǎng)時(shí)間：3600S
機(jī)械泵： 1L/S
電壓：-1200 DCV
ETD-900M參數(shù)：
主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
靶材：Au（標(biāo)配）
樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
靶材尺寸：Ф 50mm
真空指示表： 真空度：≤ 4X10-2 mbar
離子電流表： 電流：50mA
定時(shí)器： 最長(zhǎng)時(shí)間：0-360S ?
微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體： 多種
電壓： -1600 DCV ?
機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國(guó)產(chǎn) VRD-8）
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備。
特點(diǎn)：可以通過(guò)更換不同的靶材（金、鉑、銀等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
一鍵式操作，使用方便。
ETD-900M用途：
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
特點(diǎn)：1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。
5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
6、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。
