CS1350電化學工作站采用全浮地式設(shè)計，具有出色的穩(wěn)定性和精確度，*的硬件和功能完善的軟件，為涉及能源、材料、生命科學、環(huán)保等領(lǐng)域的科技工作者提供了優(yōu)秀的科研平臺。應(yīng)用領(lǐng)域包括：
（1）能源材料（鋰離子電池、太陽能電池、燃料動力電池和超級電容器等）、*功能材料以及傳感器的性能研究；
（2）電化學分析研究；
（3）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應(yīng)機理研究；
（4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價；
（5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護效率的快速評價。
（3）電合成、電沉積（電鍍）、陽極氧化、電解等反應(yīng)機理研究；
（4）金屬材料的腐蝕行為研究與耐蝕性評價；
（5）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰極保護效率的快速評價。
硬件特點
● 雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
● 內(nèi)置FRA頻響分析儀，頻率范圍10μHz ~1MHz
● 高帶寬高輸入阻抗的放大器
● 內(nèi)置FPGA DDS信號合成器
● 高功率恒電位儀/恒電流儀/零電阻電流計
● 電壓控制范圍：±10V，槽壓為±13V
● 電流控制范圍：±5.0A
● 電位分辨率：10μV
● 電流分辨率：10pA
軟件特點
① 數(shù)據(jù)分析
伏安曲線的平滑、積分和微分運算，計算各氧化還原峰的峰高、峰面積和峰電位等；
極化曲線的三參數(shù)或四參數(shù)動力學解析，計算Tafel斜率ba，bc，腐蝕電流密度icorr，極限擴散電流、極化電阻Rp和腐蝕速率等，還可由電化學噪聲譜計算功率譜密度、噪聲電阻Rn和譜噪聲電阻Rsn(f)。
② 實時存儲
CS Studio軟件實時存儲測量數(shù)據(jù)，即使因斷電導(dǎo)致測試中斷，中斷之前的數(shù)據(jù)也會自動保存。
③ 定時測量
CS Studio測試軟件具有定時測量功能，對于某些需要研究體系隨時間變化特征時，可提前設(shè)好測試參數(shù)與間隔時間，讓儀器在無人值守下自動定時測量，提高實驗效率。
技術(shù)優(yōu)勢
① 交流阻抗 儀器采用相關(guān)積分算法和雙通道同步過采樣技術(shù)，具有較強的抗力，軟件實時顯示開路電位，用戶無需輸入，可輸出準確的極化過電位。
具有恒流阻抗測試功能，尤其適合于18650、軟包電池等超低阻儲能器件的交流阻抗測量，也可用于Mott-Schottky曲線和微分電容曲線繪制。
② 極化曲線
具有恒流阻抗測試功能，尤其適合于18650、軟包電池等超低阻儲能器件的交流阻抗測量，也可用于Mott-Schottky曲線和微分電容曲線繪制。
② 極化曲線
具有線性極化和Tafel極化曲線測量功能，用戶可設(shè)定循環(huán)極化曲線的陽極回掃電流（鈍化膜擊穿電流），來確定材料的點蝕電位和保護電位，評價晶間腐蝕敏感性。軟件采用非線性擬合算法解析極化曲線，可用于材料耐蝕性和緩蝕劑性能的快速評價。
鈦基非晶態(tài)合金和不銹鋼在3%NaCl溶液中的動電位極化曲線，掃描速率為1mV/s
③ 伏安分析
能完成線性掃描伏安（LSV）、循環(huán)伏安（CV）、階梯伏安（SCV）、方波伏安（SWV）、差分脈沖伏安（DPV）、交流伏安（ACV）、溶出伏安等多種電分析方法，集成峰面積、峰電流計算和標準曲線分析功能。
聚吡咯超級電容器在0.5 mol/L H2SO4 溶液中的CV曲線 鉑電極在3 mmol/L K4[Fe(CN)6]+ 0.4 mol/L KCl溶液中的CV曲線（100mV/s）
④ 電化學噪聲
采用高阻跟隨器和零阻電流計測量腐蝕體系自發(fā)的電位與 電流波動，可用于點蝕、電偶腐蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂 等局部腐蝕研究。通過噪聲譜分析，可評估亞穩(wěn)態(tài)蝕點或裂紋的誘導(dǎo)、生長和死亡過程?；谠肼曤娮韬忘c蝕指數(shù)計算，也可用于局部腐蝕監(jiān)測。
⑤ 全浮地測量
CS系列電化學工作站采用全浮地式工作電極，可用于工作電極本身接地體系的電化學研究，如用于高壓釜電化學測試（釜體接地），大地中金屬構(gòu)件（橋梁、混凝土鋼筋）的在線腐蝕研究等。
⑥ 正反饋IR補償
啟動IR補償后，電化學工作站會增加一個額外模擬反饋路徑，通過測量電解池電流，啟用正反饋補償，硬件電路增加反饋信號，自動對Rs上的壓降進行補償。
⑦ 自定義方法
支持用戶自定義組合測量，用戶可以設(shè)定定時循環(huán)進行某一測試方法或多種方法的組合測試，用于無人值守下的定時自動測量；
提供API通用接口函數(shù)和開發(fā)實例，方便用戶二次開發(fā)和自定義測試方法；
提供用戶自定義腳本編寫范例，用于實現(xiàn)您的電化學實驗技術(shù)。
硬件參數(shù)指標
| 恒電位控制范圍：±10V | 恒電流控制范圍：±5.0A |
| 電位控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV | 電流控制精度：0.1%×滿量程讀數(shù) |
| 電位分辨度：10μV | 電流靈敏度：10pA |
| 電位上升時間：<1μS(<10mA),<10μS(<5A) | 電流量程：5A～200pA, 共12檔 |
| 參比電極輸入阻抗：1012Ω||20pF | 輸出電流：5.0A |
| 槽壓輸出：±13V | 電流掃描增量：1mA @1A/mS |
| CV和LSV掃描速度：0.001mV～10V/s | 電位掃描電位增量：0.076mV @1V/mS |
| CA和CC脈沖寬度：0.0001～65000s | DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s |
| SWV頻率：0.001～100KHz | CV的最小電位增量：0.075mV |
| AD數(shù)據(jù)采集：16bit@1MHz，20bit @1kHz | 電流與電位量程：自動設(shè)置 |
| DA分辨率：16bit，建立時間：1μS | 低通濾波器 ：8段可編程 |
| 通訊接口：USB2.0 | 儀器重量：8Kg |
| 外形尺寸（cm）：36.4(W) x 38.4(D) x 13.8 (H) |
電化學阻抗測量指標
| 信號發(fā)生器 | |
| 頻率響應(yīng)：10μHz～1MHz | 交流信號幅值：1mV～2500mV |
| 頻率精確度：0.005% | 直流偏壓：-10V～+10V |
| DDS輸出阻抗：50Ω | 波形：正弦波，三角波，方波 |
| 正弦波失真率：<1% | 掃描方式：對數(shù)/線性，增加/下降 |
| 信號分析器 | |
| 積分時間：106個循環(huán)或者105S | 測量時間延遲：0～105秒 |
| 最小積分時間：10mS 或者一個循環(huán)的最長時間 | |
| 直流偏置補償 | |
| 電位補償范圍：-10V～+10V | 電流補償范圍：-1A～+1A |
| 帶寬調(diào)整：自動或手動設(shè)置, 共8級可調(diào) | |
配置
1) 儀器主機1臺
2) CS Studio測試與分析軟件1套
3) 模擬電解池1個
4) 電源線/USB數(shù)據(jù)線各1條
5) 電極電纜線1根
6) 電腦（選配 *）
大電流電化學工作站功能方法對比表
| 功能方法 | CS1150 | CS1350 | |
| 穩(wěn)態(tài)極化 | 開路電位（OCP） | ● | ● |
| 恒電位極化（i-t曲線） | ● | ● | |
| 恒電流極化 | ● | ● | |
| 動電位掃描（Tafel曲線） | ● | ● | |
| 動電流掃描（DGP） | ● | ● | |
| 電位掃描-階躍 | | ● | |
| 暫態(tài)極化 | 任意恒電位階梯波 | ● | ● |
| 任意恒電流階梯波 | ● | ● | |
| 恒電位階躍（VSTEP） | ● | ● | |
| 恒電流階躍（ISTEP） | ● | ● | |
| 計時分析 | 計時電位法（CP） | ● | ● |
| 計時電流法（CA） | ● | ● | |
| 計時電量法（CC） | ● | ● | |
| 伏安分析 | 線性掃描伏安（LSV） | ● | ● |
| 線性循環(huán)伏安（CV） | ● | ● | |
| 階梯循環(huán)伏安（SCV） | | ● | |
| 方波伏安（SWV） | | ● | |
| 差分脈沖伏安（DPV） | | ● | |
| 常規(guī)脈沖伏安（NPV） | | ● | |
| 差分常規(guī)脈沖伏安（DNPV） | | ● | |
| 交流伏安（ACV） | | ● | |
| 二次諧波交流伏安（SHACV） | | ● | |
| 傅里葉變換交流伏安（FTACV） | | ● | |
| 電流檢測 | 差分脈沖電流檢測（DPA） | | ● |
| 雙差分脈沖電流檢測（DDPA） | | ● | |
| 三脈沖電流檢測（TPA） | | ● | |
| 積分脈沖電流檢測（IPAD） | | ● | |
| 溶出伏安 | 電位溶出分析（PSA） | | ● |
| 線性掃描溶出伏安（LSSV） | | ● | |
| 階梯溶出伏安（SCSV） | | ● | |
| 方波溶出伏安（SWSV） | | ● | |
| 差分脈沖溶出伏安（DPSV） | | ● | |
| 常規(guī)脈沖溶出伏安（NPSV） | | ● | |
| 差分常規(guī)脈沖溶出伏安（DNPSV） | | ● | |
| 交流阻抗 | 阻抗-頻率掃描 | | ● |
| 阻抗-時間掃描 | | ● | |
| 阻抗-電位掃描（Mott-Schottky 曲線） | | ● | |
| 恒電流阻抗測試 | | ● | |
| 充放電測試 | 電池充放電 | ● | ● |
| 恒電流充放電（GCD） | ● | ● | |
| 恒電位充放電 | ● | ● | |
| 恒電位間歇滴定技術(shù)（PITT） | ● | ● | |
| 恒電流間歇滴定技術(shù)（GITT） | ● | ● | |
| 擴展測量 | 電化學噪聲（EN） | ● | ● |
| 電偶腐蝕測量（ZRA） | ● | ● | |
| 電化學溶解/沉積 | ● | ● | |
| 控制電位電解庫倫法（BE） | ● | ● | |
| 溶液電阻測量 | ● | ● | |
| 循環(huán)極化曲線（CPP） | ● | ● | |
