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  • NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕

參考價訂貨量

1000000

≥1件

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號
  • 品牌其他品牌
  • 所在地國外
  • 更新時間2023-03-22
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限4
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量40
  • 人氣值689
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那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,中國臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室,提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。


那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯*限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國際前列的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。


自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為國際薄膜設(shè)備的供應(yīng)商,已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點實驗室。

我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)工程師、技術(shù)支持人員,使得公司擁有專業(yè)的服務(wù)團(tuán)隊。作為薄膜工藝的設(shè)備提供商,我們的目標(biāo)是提供高品質(zhì)的服務(wù)并始終維持超高水平的集成度。






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NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕:是一款自動放片/取片,并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。
NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕 產(chǎn)品詳情

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為全自動上下載片,并且通過計算機全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為。

該IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強的適應(yīng)性,可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu)。多樣的樣片夾具和離子源配置可支持用戶不同的應(yīng)用。用于離子銑系統(tǒng)的樣片夾具可以支持±90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。

我們的IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以把基片溫度保持在50°C以內(nèi)的能力。通過傾斜和旋轉(zhuǎn),可以刻蝕出帶斜坡的槽,并且改善了對側(cè)壁輪廓和徑向均勻度的控制。不同的選配項可以用于不同的網(wǎng)格配置以及中和器。濺射選配項可以支持對新刻蝕金屬表面的涂覆,以防氧化。此外,還可以選配單晶圓自動上下片功能。該系列IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以配置RF ICP離子源,升級為RIBE反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)。


NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點:

  • 低成本

  • 帶預(yù)真空鎖,自動上下載片

  • 離子束:高達(dá)2KV/10mA

  • 離子電流密度100-360uA/cm2

  • 離子束直徑:4",5",6"

  • 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)

  • 極限真空5x10-7Torr

  • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵

  • 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體

  • 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)

  • 自動上下載片(NIE-3500)

  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

  • 占地面積30"x30"

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕設(shè)備應(yīng)用:

  • 表面處理

  • 離子銑

  • 表面清洗

  • 帶活性氣體的離子束刻蝕:  光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕



熱門產(chǎn)品
產(chǎn)品名稱參考價地區(qū)公司名稱更新時間 
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