NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng)產(chǎn)品概述:利用離子束轟擊固體表面的濺射作用,剝離加工各種幾何圖形,通過大面積離子源產(chǎn)生的離子束,可對固體材料濺射刻蝕,對固體器件進行微細加工。該系統(tǒng)為全自動上下載片,計算機全自動控制的系統(tǒng)。
NANO-MASTER技術(shù)已經(jīng)證明了可以把基片溫度控制在50° C以內(nèi)的同時,旋轉(zhuǎn)晶圓片以達到想要的均勻度。
NIM-4000(M)離子銑刻蝕系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
14.5”不銹鋼立體離子束腔體
16cm DC離子槍1200eV,650mA, 氣動不銹鋼遮板
離子束中和器
氬氣MFC
6”水冷樣品臺
晶片旋轉(zhuǎn)速度3、10RPM,真空步進電機
步進電機控制晶圓片傾斜
自動上下載晶圓片
典型刻蝕速率:銅200 ?/min, 硅:500 ?/min
6”范圍內(nèi),刻蝕均勻度+/-3%
極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可達到10-6Torr級別(配套500 l/s渦輪分子泵)
配套1000 l/s渦輪分子泵,極限真空可達8x10-8Torr
磁控濺射Si3N4以保護被刻蝕金屬表面被氧化
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
菜單驅(qū)動,4級密碼訪問保護
完整的安全聯(lián)鎖