MAXIM 二次離子濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰、陽離子動態(tài)和中性粒子，所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面，應用于SIMS和SNMS的光學采樣。
·光柵控制，增強深度分析能力
·所有能量范圍內，離子行程的最小擾動，及恒定離子傳輸
·靈敏度高 / 穩(wěn)定的脈沖離子計數(shù)檢測器
·質量數(shù)范圍： 300amu，500amu，1000amu
·檢測器： 離子計數(shù)探測器、正負離子探測器、107 cps
·質量過濾器： 3F四級桿
·桿直徑： 9mm
·加熱： 250℃
·離子源： 電子轟擊，可用于SNMS和RGA的單根燈絲
MAXIM - Quadrupole SIMS Analyser (562 KB)
AP0088 - Metal-Carbon Composites and Multilayer Thin Films Prepared by Plasma Assisted Sequential Deposition (293 KB)
AP0128 - Magnesium Nitride Phase Formation Through New Ion Beam Implantation Technique (406 KB)
