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二次離子質(zhì)譜工作站

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  • 產(chǎn)品數(shù)量86
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The Hiden SIMS Workstation provides for high performance static and dynamic SIMS applications for detailed surface composition analysis and depth profiling.
二次離子質(zhì)譜工作站 產(chǎn)品詳情

SIMS 工作站(SIMS Workstationa complete SIMS Analysis Facility) ,綜合UHV / SIMS 設(shè)備,進(jìn)行高級的表面分析??煽康?、普遍適用的SIMS分析工作站。

 

·整合的離子源,便于RGASNMS

·各類型樣品的快速轉(zhuǎn)向

·陰、陽離子、中性粒子、自由基的質(zhì)量、能量分析儀

·整合的離子槍光柵控制和信號選通,進(jìn)行深度分析
·絕緣體研究中的電子流槍用于電荷中和
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·自動(dòng)的SIMS 離子光學(xué)透鏡調(diào)諧和質(zhì)量數(shù)列表,使SIMS性能

 

·Hiden EQS SIMS 分析儀,運(yùn)行于 MASsoft O/S 之下,檢測限至ppb

·基本的激發(fā)源選擇: 帶差式泵的Hiden IG20 Ion,IFG200 FAB或高性能液態(tài)鎵槍
·快速樣品傳遞,樣品固定,負(fù)載鎖定的操縱器
·4 軸:X, Y, Z, θ UHV 操縱器,以定位樣品
·加上ESM LabVIEWSIMS 成像程序,進(jìn)行SIMS元素成像
·靜態(tài)SIMS譜圖庫可用

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)

SIMS Brochure TI 181 (670 KB)

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