電子束曝光技術(shù)是在計(jì)算機(jī)控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦后的電子束對(duì)基片上的抗蝕劑進(jìn)行曝光,在抗蝕劑中產(chǎn)生具有不同溶解性能的區(qū)域,根據(jù)不同區(qū)域的溶解特性,利用具有選擇性的顯影劑進(jìn)行顯影,溶解性強(qiáng)...
查看詳情電子束曝光技術(shù)是在計(jì)算機(jī)控制下,按照加工要求的圖形,利用聚焦后的電子束對(duì)基片上的抗蝕劑進(jìn)行曝光,在抗蝕劑中產(chǎn)生具有不同溶解性能的區(qū)域,根據(jù)不同區(qū)域的溶解特性,利用具有選擇性的顯影劑進(jìn)行顯影,溶解性強(qiáng)...
查看詳情摘要 AMAT二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)CENTURAENABLERE2,2009年設(shè)備,可對(duì)尺寸為12英寸的晶圓進(jìn)行刻蝕工藝加工處理
在線詢(xún)價(jià)摘要 AMAT二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)CENTURAENABLERE5,2010年設(shè)備,可以對(duì)尺寸為12英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理
在線詢(xún)價(jià)摘要 GASONICS/NOVELLUS二手刻蝕機(jī)PEP4800DLIRIDIA,1998年設(shè)備,可對(duì)尺寸為8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工處理
在線詢(xún)價(jià)摘要 hitachi日立二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨M-308FX,1996年設(shè)備,以鋁為刻蝕材料,采用干法刻蝕工藝,可對(duì)6英寸晶圓進(jìn)行蝕刻加工
在線詢(xún)價(jià)摘要 PLASMATHERMSLR770刻蝕機(jī)現(xiàn)貨,隨時(shí)發(fā)貨,2001年設(shè)備,可對(duì)2-6英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工
在線詢(xún)價(jià)摘要 PLASMATHERMWAFER/BATCH740刻蝕機(jī),1998年設(shè)備,可對(duì)4英寸晶圓進(jìn)行可是處理,也可升級(jí)處理6英寸晶圓
在線詢(xún)價(jià)摘要 PLASMATHERM刻蝕機(jī)BATCHTOPVII,1993年P(guān)ECVD設(shè)備,可處理6英寸晶圓,現(xiàn)貨隨時(shí)發(fā)
在線詢(xún)價(jià)摘要 PLASMATHERM刻蝕機(jī)VLN-VERSALINE,2009年設(shè)備,ICP刻蝕系統(tǒng),現(xiàn)貨供應(yīng),隨時(shí)發(fā)貨
在線詢(xún)價(jià)摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)PLASMATHERMVERSALOCK700,RIE刻蝕系統(tǒng),可對(duì)8英寸晶圓進(jìn)行蝕刻處理
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