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電子工業(yè)的飛速發(fā)展對(duì)線路板制造業(yè)的要求越來越高, 線路板層數(shù)越來越高, 孔密越來越大并向微孔化不斷發(fā)展, 某國內(nèi)制造商為了銑刀進(jìn)行銑邊及成型加工時(shí), 減少產(chǎn)品的披鋒、毛刺及銑刀斷刀, 采用伯東 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP380輔助鉆頭銑刀上鍍膜.
該制造商的真空離子鍍膜技術(shù), 利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP380 轟擊靶材形成離子, 并使離子在強(qiáng)磁場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)下吸附于鉆頭或鑼刀上形成鍍層, 制備出鍍膜鉆頭及鍍膜銑刀.
用于濺射的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
射頻離子源型號(hào) | RFICP380 |
Discharge 陽極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動(dòng)能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |
推薦理由:
聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
運(yùn)行結(jié)果:
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口品牌的代理商.
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