ASUMI技研株式會(huì)社準(zhǔn)分子照射裝置
準(zhǔn)分子照射裝置
采用以172nm紫外線為主波長的準(zhǔn)分子照射裝置進(jìn)行表面改性。因?yàn)椴捎昧薘F (高頻)放電燈,閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。 另外采用平面型燈,大面積實(shí)現(xiàn)了均勻的照射
準(zhǔn)分子照射裝置(主波長: 172nm )
ASUMI技研株式會(huì)社準(zhǔn)分子照射裝置
準(zhǔn)分子照射裝置
采用以172nm紫外線為主波長的準(zhǔn)分子照射裝置進(jìn)行表面改性。因?yàn)椴捎昧薘F (高頻)放電燈,閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。 另外采用平面型燈,大面積實(shí)現(xiàn)了均勻的照射
準(zhǔn)分子照射裝置(主波長: 172nm )
Ø 因?yàn)椴捎昧薘F放電燈,閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。 采用平面型燈,大面積實(shí)現(xiàn)均勻的照射
Ø 準(zhǔn)分子燈利用了封入稀有氣體的燈內(nèi)產(chǎn)生的放電等離子體(電介質(zhì)阻擋放電)產(chǎn)生的光(準(zhǔn)分子光)。
Ø 主要波長有126nm(Ar2)、146nm(Kr2)、172nm(Xe2)、222nm(KrCl )、308nm(XeCl )。
Ø 本公司采用利用了Xe2的以172nm為主波長的燈單元,提供表面改性、親水化處理(潤濕性方向上)用的裝置
Ø 與將放電直接照射到工件的電暈放電、等離子體方式不同,準(zhǔn)分子照射只是真空紫外線的照射,對工件幾乎沒有損傷。
Ø 與電極的濺射產(chǎn)生粉塵的電暈放電、等離子體方式不同,可進(jìn)行清潔處理。
Ø 利用光的準(zhǔn)分子照射沒有處理不均。
Ø 可瞬時(shí)點(diǎn)亮、熄滅
Ø 因?yàn)椴捎昧薘F (高頻)放電燈,閃爍少的穩(wěn)定的輸出功率。
Ø 采用平面型燈,大面積實(shí)現(xiàn)均勻的照射
ASUMI技研株式會(huì)社準(zhǔn)分子照射裝置
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