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杭州大華儀器制造有限公司


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DHDP& DHIP 系列 射頻 CCP/ICP 薄膜沉積裝置

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參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地杭州市

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更新時間:2024-04-03 15:18:12瀏覽次數(shù):59次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:312條

所在地區(qū):浙江杭州市

產(chǎn)品簡介

本裝置由我公司和中科院固體物理研究所聯(lián)合研制

詳細(xì)介紹

本裝置由我公司和中科院固體物理研究所聯(lián)合研制。設(shè)備主要由薄膜沉積室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)等部分組成。

主要實驗內(nèi)容

1、硅材料在薄膜太陽能電池上的應(yīng)用;

2、硅系納米復(fù)合薄膜材料 PCVD 法制備;

3、等離子體化學(xué)氣相沉積制備各種功能薄膜。

技術(shù)參數(shù)

1.jpg



關(guān)鍵詞:控制系統(tǒng)
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