分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000

分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000

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產(chǎn)品介紹

SE-3000光譜橢偏儀專為滿足微電子、平板顯示、鍍膜等領(lǐng)域的開發(fā)和測試線需求而設(shè)計(jì)。SE-3000 基于 Semilab的前身，結(jié)合了兩個晶圓 FOUP 裝載端口、一個高速平臺、一個搬運(yùn)機(jī)器人和一個高速預(yù)對準(zhǔn)站，以實(shí)現(xiàn)高吞吐量。SE-3000 在光譜范圍、性能和光斑尺寸方面具有高性能規(guī)格。

用于圖案化晶圓應(yīng)用的微點(diǎn)光譜橢偏儀。在沉積過程中，高精度評估薄膜和多層膜的膜厚值和折射率分布（折射率、消光系數(shù)）。旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器型光譜橢偏儀通過測量從紫外區(qū)到近紅外區(qū)的寬波長范圍實(shí)現(xiàn)高精度測量?？捎糜诎雽?dǎo)體工藝中薄膜、多層膜、外延層等薄膜。

SE-2100光譜橢偏儀是一款研發(fā)用的光譜橢偏儀，由帶安全罩的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備SE-2000和高速樣品臺組成。

因?yàn)槭菐О踩值囊?guī)格，所以可以在安全性嚴(yán)格的制造工序中使用。適用于評估有機(jī)EL、太陽能電池和平板顯示器的薄膜厚度和光學(xué)特性。自動高度調(diào)節(jié)傳感器可實(shí)現(xiàn)快速測繪測量。應(yīng)用包括印刷電子、光學(xué)和電氣計(jì)量、薄膜涂層表征和層厚控制。

分光橢偏儀 SE-2000 的特點(diǎn)

多項(xiàng)銷售業(yè)績

旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器型高精度測量

使用高分辨率陣列檢測器進(jìn)行高速測量（數(shù)秒/點(diǎn)）

光電倍增管PMT高精度測量

背面反射效應(yīng)去除功能

用戶友好的軟件

廣泛的數(shù)據(jù)庫

具有各種選項(xiàng)的可擴(kuò)展性

它結(jié)合了激光橢圓儀和光譜反射儀，并配備了高精度 XY 平臺。測量單層和多層的厚度和光學(xué)特性（n 和 k）。測量是非破壞性和非接觸式的。

Semilab 的孔隙度計(jì)系列 (PS) 計(jì)量系統(tǒng)采用光學(xué)孔隙度計(jì) (EP) 技術(shù)來測量厚度、折射率、孔隙率、孔徑分布、楊氏模量和阻擋層完整性。PS 系統(tǒng)將高真空室中的溶劑吸附實(shí)驗(yàn)與 Semilab 的光譜橢偏儀 (SE) 技術(shù)相結(jié)合，為當(dāng)前和未來工藝的開發(fā)、評估和監(jiān)控提供了全面的計(jì)量解決方案。特別是，它解決了多孔低的集成挑戰(zhàn)-k 材料。

PS 產(chǎn)品線提供各種級別的自動化和晶圓尺寸功能，從優(yōu)惠券到 450 毫米晶圓。這種專有技術(shù)無需樣品刮擦或制備即可實(shí)現(xiàn) CVD 和旋涂多孔薄膜的結(jié)構(gòu)表征。

Semilab AMS 的 SW-3300 使用專有的 SurfaceWave™ 技術(shù)來測量薄膜金屬和電介質(zhì)的厚度和均勻性。它專為銅和低 k 材料開發(fā)，是一種低成本但功能強(qiáng)大的產(chǎn)品。非常適合瓶形溝槽、直溝槽和介電層的厚度和成分測量。