X射線由Mo靶或W靶產(chǎn)生,在Ni/C人工多層膜上反射并單色化。扁平的光束以非常小的角度(0.3 – 0.6 °)掠射裝有樣品的樣品架,并產(chǎn)生全反射。樣品所產(chǎn)生的特征熒光被能量色散探測器(XFlash® detector) 探測,強度通過偶合的多通道分析器測量。
與常規(guī)的XRFzui大的不同,全反射熒光(TXRF)是使用了單色光和全反射光學部件。以全反射光束照射樣品,降低了吸收、以及樣品及襯底材料對光的散射。結(jié)果是大大降低了背景噪音,因此有高的多的靈敏度和明顯地降低了基體效應(yīng)。
全反射熒光(TXRF)的zui主要優(yōu)點是,相對于其他原子波譜分析法,如AAS 或 ICP-OES,無記憶效應(yīng)。