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上海伯東為美國(guó)考夫曼公司離子源 離子槍

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新時(shí)間2017-08-17
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 入駐年限6
  • 產(chǎn)品數(shù)量92
  • 人氣值1306
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位于中國(guó)上海浦東外高橋保稅區(qū)的伯東企業(yè)(上海)有限公司創(chuàng)建于1995年12月,是日本伯東株式會(huì)社獨(dú)資設(shè)立的外商投資企業(yè),公司注冊(cè)資金為800萬(wàn)美元。

本公司主要是一家以經(jīng)營(yíng)電子接插件、線束、電線以及機(jī)械設(shè)備、中空產(chǎn)品等精密儀器、設(shè)備的維修,以及以半導(dǎo)體制造裝置、基板制造裝置、電腦軟件為主的貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易及保稅區(qū)企業(yè)間貿(mào)易及保稅區(qū)貿(mào)易代理、貿(mào)易及相關(guān)技術(shù)咨詢(xún)的公司。

公司一直堅(jiān)持品質(zhì)*、信譽(yù)*的原則,為廣大客戶(hù)提供了高品質(zhì)的產(chǎn)品以及良好的售后服務(wù)。到目前為止已先后通過(guò)了美國(guó)UL安全認(rèn)證、 ISO9001-2000質(zhì)量體系認(rèn)證、ISO14001-1996環(huán)境體系認(rèn)證。公司將在今后的發(fā)展中秉承以人為本,不斷開(kāi)拓進(jìn)取的精神,為滿足客戶(hù)的需求努力向?qū)I(yè)化、優(yōu)質(zhì)化、集團(tuán)化發(fā)展。

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上海伯東為美國(guó)考夫曼公司離子源 離子槍 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中華總代理.美國(guó)霍爾離子源 離子槍 EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 系列不僅廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)單位,且因離子抨擊能量強(qiáng), 蝕刻效率快, 可因應(yīng)多種基材特性,單次使用*, 耗材成本極低, 操作簡(jiǎn)易, 安裝簡(jiǎn)易, 所以美國(guó)考夫曼霍爾離子源目前廣泛應(yīng)用于許多蝕刻制程
上海伯東為美國(guó)考夫曼公司離子源 離子槍 產(chǎn)品詳情

上海伯東美國(guó)考夫曼霍爾離子源于離子刻蝕 (IBE) 應(yīng)用 Kaufman & Robinson,Inc (KRi) End Hall
 

上海伯東為美國(guó)考夫曼公司離子源 離子槍 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 大中華總代理.美國(guó)霍爾離子源 離子槍 EH200, EH400, EH1000, EH200, EH3000 系列不僅廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)單位,且因離子抨擊能量強(qiáng), 蝕刻效率快, 可因應(yīng)多種基材特性,單次使用*, 耗材成本極低, 操作簡(jiǎn)易, 安裝簡(jiǎn)易, 所以美國(guó)考夫曼霍爾離子源目前廣泛應(yīng)用于許多蝕刻制程及基板前處理制程.

 

客戶(hù)案例: 國(guó)內(nèi)某大學(xué)天文學(xué)系小尺寸刻蝕設(shè)備

  1. 系統(tǒng)功能: 對(duì)于 Fe, Se, Te , PCCO及多項(xiàng)材料刻蝕工藝.
  2. 樣品尺寸: 2吋硅芯片.
  3. 實(shí)際安裝:

刻蝕設(shè)備: 小型刻蝕設(shè)備. 選用上海伯東美國(guó)考夫曼霍爾離子源 EH400HC

 

 

離子源 EH400HC 安裝于刻蝕腔體內(nèi).

 

 

離子源 EH400HC 控制單元操作                 離子源 EH400HC 實(shí)際點(diǎn)燃 (氬氣)

 

 

對(duì)于 FeSeTe 刻蝕應(yīng)用, 離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >20 A/Sec

 

對(duì)于 FeSeTe 刻蝕應(yīng)用, 離子源 EH400HC 條件: 110V/1.5A, 刻蝕速率 >17 Å/Sec

霍爾離子源 EH400HC 優(yōu)點(diǎn):

  • 高離子濃度 (High density), 低能量(Low energy)
  • 離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)               
  • 鍍膜均勻性佳
  • 提高鍍膜品質(zhì)
  • 模塊化設(shè)計(jì), 保養(yǎng)快速方便
  • 增加光學(xué)膜后折射率 (Optical index)      
  • 全自動(dòng)控制設(shè)計(jì), 超做簡(jiǎn)易
  • 低耗材成本,安裝簡(jiǎn)易


    KRI
    離子源簡(jiǎn)介:
    美國(guó)考夫曼公司 離子源 離子槍發(fā)明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士將此* VEECO 生產(chǎn).于1978年考夫曼博士在美國(guó)自行創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 美國(guó)考夫曼公司, 歷經(jīng)30年離子源 離子槍之改良及研發(fā)并取得多項(xiàng),目前已在光學(xué)鍍膜 (Optical coating), IBAD (離子源助鍍), IBSD (離子濺鍍), IBE (離子刻蝕), DD(離子鍍膜)等等應(yīng)用大量使用.上海伯東為美國(guó)考夫曼公司離子源 離子槍 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 中國(guó)總代理


 

上海伯東主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品德國(guó) Pfeiffer渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真空計(jì), 真空規(guī)管);氦質(zhì)譜檢漏儀;質(zhì)譜分析儀;真空系統(tǒng)以及 Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門(mén), Polycold 冷凍機(jī)美國(guó)KRI Kaufman 考夫曼離子源離子槍

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