平面度和應(yīng)力測(cè)試儀可非接觸式測(cè)量各種反射硅片和玻璃表面平面度、波紋度和薄膜應(yīng)力,廣泛用于晶圓硅片、反射鏡、金屬表面或拋光聚合物。
平面度和應(yīng)力測(cè)試儀的光學(xué)測(cè)量原理確保了高精度。它是基于對(duì)垂直入射激光束沿恒定步長(zhǎng)線的反射角的測(cè)量。表面形狀可以根據(jù)測(cè)量點(diǎn)之間反射角的變化來(lái)精確計(jì)算。
平面度和應(yīng)力測(cè)試儀可測(cè)量半導(dǎo)體行業(yè)鍍膜的薄膜應(yīng)力,薄膜應(yīng)力可以通過(guò)涂層前后測(cè)量的半徑來(lái)計(jì)算。
平面度和應(yīng)力測(cè)試儀特點(diǎn)
標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量面積為200mm，*大的測(cè)量面積可訂做而不會(huì)降低精度
測(cè)量精度高,分辨率為0.1弧秒，表面形狀再現(xiàn)性達(dá)到100nm
測(cè)量工作距離大，測(cè)量范圍大，適用于測(cè)量具有強(qiáng)曲率的表面，如goebel反射鏡、硅片或其他表面。所使用的光學(xué)測(cè)量原理與工作距離無(wú)關(guān)，并確保了較高的工作距離，因此沒(méi)有損壞樣品的危險(xiǎn)。
可選2D或3D測(cè)量
軟件模塊支持測(cè)量涂層或薄膜應(yīng)力,用于通過(guò)?？怂估碚撚?jì)算薄膜應(yīng)力,根據(jù)涂覆過(guò)程前后的平均曲率半徑計(jì)算。
平面度和應(yīng)力測(cè)試儀技術(shù)規(guī)格
表面曲率（P-V）再現(xiàn)精度：≤100 nm**
光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的分辨率：0.1弧秒
光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)的精度：1弧秒
測(cè)量速度：10mm~30mm/秒
測(cè)量場(chǎng):標(biāo)準(zhǔn)：ø200毫米*（可以在沒(méi)有問(wèn)題的情況下進(jìn)行大范圍操作）
試樣厚度:不受限制
***小曲率半徑和根據(jù)掃描長(zhǎng)度的箭頭高度:
200mm：R=18 m 290µm，300mm：R=25 m 435µm，500mm：R=43 m 725µm
自由工作距離: 不受限制
測(cè)量波長(zhǎng): 標(biāo)準(zhǔn)：670nm*
自動(dòng)測(cè)量