| | 設備簡介： 化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中應用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)?？茖W等領域。 | ||
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配置詳情
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NBD-101E嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式，非線性式樣溫度修正； | ||||||||
| 產品型號 | NBD-O1200-XIIIT（爐管直徑50、60、80、100mm可選） | ||||||||
| 工作溫度 | ≤1150℃ | ||||||||
| 加熱區(qū)尺寸 | 200mm+400mm+200mm（三溫三控） | ||||||||
| 升溫速率 | ≤20℃/min | ||||||||
| 電氣規(guī)格 | AC 380V 8KW | ||||||||
| 氣體系統(tǒng)（可選購） | 流量計類型 | 浮子流量計 | 質量流量計 | ||||||
| 管道示意圖 | | | |||||||
| 進氣接口數(shù)量 | 2、3、4（多路可選） | ||||||||
| 流量范圍 | 20-250/20-800ml/min(多量程可選) | 50/100/200sccm(多量程可選) | |||||||
| 工作壓差范圍 | 0-0.15MPa | ||||||||
| 低真空系統(tǒng)（可選購） | 真空泵型號 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | |||||
| 抽氣速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | ||||||
| 進排氣口尺寸 | Φ8mm寶塔接頭 | Φ8mm寶塔接頭 | KF16/25 | ||||||
| 極限壓力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | ||||||
| 工作溫度 | 5-40℃ | ||||||||
| 電氣規(guī)格 | AC220V | ||||||||
| 高真空系統(tǒng)（可選購） | 真空泵型號 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | |||||
| 抽氣速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | ||||||
| 真空測量計 | 復合真空計 | ||||||||
| 極限壓力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | ||||||
| 工作溫度 | 5-40℃ | ||||||||
| 電氣規(guī)格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | ||||||
| * 支持非標定做，更多型號，歡迎來電垂詢 | |||||||||
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