氧化爐   3-12英寸工藝

 氧化爐應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、電力電子器件、光電子器件、半導(dǎo)體器件、光導(dǎo)纖維及太陽(yáng)能電池等行業(yè)的氧化、擴(kuò)散、燒結(jié)、合金等工藝，可用于3-12英寸工藝尺寸。

主要技術(shù)指標(biāo)：

爐管數(shù)：1～4管

配工藝管口徑：Φ90～360 mm (3～12英寸)

恒溫區(qū)長(zhǎng)度： 760～1000 mm±1.0℃ (300～800℃)  760～1000 mm±0.5℃(800～1280℃)

單點(diǎn)穩(wěn)定性： ±1.0℃/24h (300～800℃)    ±0.5℃/24h (800～1280℃)

氣源路數(shù)：    ≤7路，可配恒溫源瓶、氫氧合成點(diǎn)火器

氣體控制：    浮子/質(zhì)量流量計(jì)

懸臂舟參數(shù)： 速度：    20～1000 mm/min    行程：2000 mm    定位精度：±1 mm    載荷：17 Kg

超凈工作臺(tái)： 凈化等級(jí)：100級(jí)（萬(wàn)級(jí)廠房）

噪音：    ≤62dB（A）

振動(dòng)：    ≤3μm

設(shè)備特點(diǎn)：?jiǎn)卧M合方式。根據(jù)工藝的不同，可以在主機(jī)的基礎(chǔ)上配氣源柜、超凈工作臺(tái)、懸臂推拉舟等。  

晨立擴(kuò)散爐設(shè)備,技術(shù)和質(zhì)量已達(dá)國(guó)際水平,受到半導(dǎo)體設(shè)備制造企業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)高度關(guān)注.可替代國(guó)外同規(guī)格產(chǎn)品滿足不同工藝的要求。