遠(yuǎn)源等離子濺射系統(tǒng)不同與射頻磁控濺射系統(tǒng),它是通過靶材遠(yuǎn)處產(chǎn)生高密度等離子體完成濺射的。等離子體經(jīng)PLS出口的發(fā)射電磁線圈放大,并由匯聚線圈完成等離子方向的匯聚與控制,覆蓋靶材表面。靶面通過施加負(fù)偏壓,在表面形成高密度電流,靶材得到均勻的刻蝕,相對于常規(guī)磁控濺射,減少了靶中毒的現(xiàn)象,對非金屬薄膜提高了沉積速率。同時(shí)可在靶材上施加直流偏壓,用于濺射絕緣靶材。
免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考。可能由于更新不及時(shí),或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司客服人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,諾巴迪公司不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知。