| 主要參數(shù) | |||
| 外形尺寸 | 424（L）×345（D）×420（H） | 輸入電源 | 220V/800W |
| 可用靶材 | 所有金屬、部分化合物 | 靶材尺寸 | φ57mm |
| 真空室 | 高硅硼玻璃 φ200×130mm | 工作介質(zhì) | 高純氬氣（≥4N） |
| 低真空泵 | 旋片泵 | 抽速 | 1.1L/s |
| 高真空泵 | 進(jìn)口渦輪分子泵 | 抽速 | 90L/s |
| 極限真空 | ≤5×10-3Pa | 工作真空 | 0.1-3Pa |
| 濺射電流 | 5-200mA 可調(diào) | 濺射時(shí)間 | 1-999s 可調(diào) |
| 樣品臺(tái) | φ125mm | 樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 4-20rpm 可調(diào) |
| 顯示屏 | 7 英寸 TFT 彩色觸摸屏 | 抽氣節(jié)拍 | ≤5 分鐘 |
| 進(jìn)氣 | 全自動(dòng) | 放氣 | 全自動(dòng) |
| 預(yù)濺射 | 具備預(yù)濺射擋板，全自動(dòng)控制 | ||
| 保護(hù)功能 | 過流保護(hù)、真空保護(hù)、分子泵過熱保護(hù)等 | ||
| 膜厚儀 （選配） | 可實(shí)時(shí)顯示鍍膜厚度，并通過設(shè)定來控制鍍膜過程，測(cè)量精度 0.1nm，單次鍍膜設(shè)定范圍 1-999nm，測(cè)量范圍 10μm | ||
| 其它 | 可根據(jù)用戶需要，提供定制化產(chǎn)品 | ||
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