KJ-T1200大口徑CVD管式爐是一種具有60mm直徑石英管,真空泵和三通道質量流量計氣體流動系統(tǒng)的可拆分管式爐。 它可以混合1-3種氣體用于CVD或擴散。
產品用途:
包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料、二維材料等,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
也可用于:真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。
產品參數(shù):
型號 | KJ-T1200-CVD |
顯示 | 液晶顯示屏 |
部分 | |
爐膛 | 分體式和上部可以打開 |
工作溫度 | 1100°C |
加熱速率 | 建議:0?10℃/ min(20℃/ min) |
加熱溫區(qū) | 500mm |
加熱元件 | 鉬電阻絲 |
溫度控制精度 | ±1℃ |
爐管尺寸 | 外徑200mm X長度1200mm |
供電電源 | 三相380V,50HZ |
功率 | 20KW (功率以實際設計為準) |
溫度控制器 | 30段高精度數(shù)字可編程溫度控制器 |
第二部分混氣系統(tǒng) 七星華創(chuàng) | |
量程 MFC1 H2 0-200sccm 氫氣 MFC2 NH3 0-200sccm 氨氣 (D07-26C 即可,但是需要特殊要求耐氨的) MFC3 SiH4 0-200sccm 硅烷(CS200A 硅烷專用流量計) | LCD觸摸屏 |
第三部分 電阻硅真空計 | |
第四部分 射頻電源 | |
更多規(guī)格可根據(jù)需求定制 |
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