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  • 雙靶高真空磁控濺射儀

VTC-600-2HD 雙靶高真空磁控濺射儀

參考價
面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號VTC-600-2HD
  • 品牌
  • 所在地上海市
  • 更新時間2023-05-01
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 入駐年限9
  • 實名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量437
  • 人氣值678
產(chǎn)品標(biāo)簽

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VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導(dǎo)電,合金,半導(dǎo)體,陶瓷,介電,光學(xué),氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。
雙靶高真空磁控濺射儀 產(chǎn)品詳情

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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雙靶高真空磁控濺射儀

VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導(dǎo)電,合金,半導(dǎo)體,陶瓷,介電,光學(xué),氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。

 

•體積小,操作簡便
•真空腔室、真空泵組整機模塊化設(shè)計,控制電源為分體式設(shè)計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整購買需求。
•可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍,購買前請聯(lián)系我公司銷售。

 

數(shù)

輸入電源:220V AC 50/60Hz
功率:<2KW(包含真空泵)
濺射電源:安裝有兩個濺射電源:
直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
射頻(RF)電源:300W,可制作氧化物和金屬膜

真空腔體:

真空腔體:φ300 mm  x 300 mm H,采用不銹鋼制作
觀察窗口:φ100 mm
腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

氣體流量控制器:

儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計,量程為:0-100sccm
氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)

真空系統(tǒng):

配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作)
標(biāo)準(zhǔn)5E-5mbar 極限7.4E-6mbar(僅供參考,詳情請點擊)

薄膜測厚儀(可選):

一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

產(chǎn)品尺寸:L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

凈重160 kg

磁控濺射頭:

儀器中安裝有2個2英寸磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層
一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材
靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
可以單獨訂購RF連接線作為備用
設(shè)備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻

 

載樣臺:

載樣臺尺寸:φ140mm(可放置4"的基底)
載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))
載樣臺可加熱溫度為500℃


 


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