ASML二手翻新DUV光刻機NXT:1965Ci，采用193nmARF曝光光源，分辨率38nm，產(chǎn)能250wph。
主要特點和優(yōu)勢
與 TWINSCAN NXT:1970Ci 一樣，TWINSCAN NXT:1965Ci 步進掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為在 20 納米以下節(jié)點批量生產(chǎn) 300 毫米晶圓而設(shè)計。
通過結(jié)合高生產(chǎn)率和出色的圖像分辨率，TWINSCAN NXT: 1965Ci 可滿足雙重和多重圖案化要求，為我們的客戶提供用于亞 20 nm 節(jié)點的經(jīng)濟高效的解決方案。
01. 提高生產(chǎn)力
在該系統(tǒng)中，新穎的氣體壽命延長減少了機器停機時間，并加強了經(jīng)過驗證的 6 kHz ArF 激光技術(shù)，以提供高功率以支持高吞吐量。浸沒罩設(shè)計改進拓寬了使用無面漆的低接觸角抗蝕劑優(yōu)化缺陷率的窗口。
與 TWINSCAN NXT:1965Ci 維護計劃程序一起，綜合服務(wù)包通過利用系統(tǒng)空閑時間執(zhí)行所需的日常維護來優(yōu)化系統(tǒng)可用性。
TWINSCAN NXT:1965Ci 平面雙載物臺的剛度增加，可提供更高的速度和加速度，從而實現(xiàn)更快的步進和掃描序列。加上更快的卡盤更換，新設(shè)計在生產(chǎn)力方面向前邁出了一大步。此外，對可維護性的嚴格關(guān)注導(dǎo)致設(shè)計在需要時易于訪問。
02. 的光學(xué)
基于 TWINSCAN NXT:1960Bi 成功的在線折反射透鏡設(shè)計理念，TWINSCAN NXT:1965Ci 包括一個 1.35 NA 193 nm 折反射投影透鏡，可實現(xiàn)低至 40 nm (C-quad) 和 38 nm (偶極子）和直列式設(shè)計，支持全 26 x 33 毫米視場尺寸、4 倍縮小和與現(xiàn)有設(shè)計的標(biāo)線兼容性。
鏡頭元件配備了用于校正光學(xué)像差的操縱器，從而為低 k1 應(yīng)用實現(xiàn)生產(chǎn)力。FlexRay Prepared Illuminator 通過擴展傳統(tǒng)和離軸照明的范圍來實現(xiàn)的靈活性，以實現(xiàn)用于低 k1 成像的高級瞳孔整形。
03. 成像性能
NXT:1965Ci 可以實現(xiàn) ≤ 2.5 nm 單機（專用卡盤）全晶圓覆蓋覆蓋，以及 ≤ 4.5 nm 匹配機（參考晶圓）全晶圓覆蓋覆蓋。
該系統(tǒng)的平行 ILIAS (PARIS) 傳感器允許客戶對整個投影狹縫中的光學(xué)像差進行平行測量，從而實現(xiàn)更準(zhǔn)確的對準(zhǔn)、改進的標(biāo)線加熱校正和動態(tài)鏡頭加熱校正。
