NSR-S635EArF浸入式光刻機,集成內聯(lián)對準站(iAS),用于大容量5nm節(jié)點應用程序制造。采用流型平臺效率,NSR-S635E在2.1nmMMO下提供了更好的覆蓋精度,同時提供了超過275WPH(96次)的顯著吞吐量。
NSR-S635EArF浸入式光刻機對準站對所有晶圓進行高速、超精確的測量,然后在不降低光刻系統(tǒng)吞吐量的情況下糾正有問題的網格誤差。iAS能夠對晶圓片上的所有鏡頭進行全面、多點對齊,實現(xiàn)顯著的疊加改進,以及限度的掃描儀吞吐量。