ASML浸沒式光刻機XT:1900i是XT：1700Fi的自然擴展，通過提供40nm的半間距分辨率，支持半導體行業(yè)所要求的設備縮小的持續(xù)驅(qū)動器。該系統(tǒng)的特點是一個基于已經(jīng)被證明的在線反輻射透鏡概念的投影透鏡，但具有增強型的，行業(yè)的NA為1.35。覆蓋被改進到6nm的單機，并使用系統(tǒng)在恰克奉獻模式下降到遠低于5nm，使其成為32nm及以下的雙模式應用的啟用器。
ASML浸沒式光刻機XT:1900i是建立在已建立的雙鏈掃描平臺上的。該平臺的成熟技術(shù)降低了風險，提高了可靠性。更重要的是，雙掃描平臺的雙級架構(gòu)，加上XT：1900Gi提高的掃描速度600 mm/s的速度，達到每小時131個晶片的高容量吞吐量。XT：1900i使用了與XT：1700i相同的水解石浸沒技術(shù)，并將其與一個新的、非常高的NA（1.35）投影系統(tǒng)相結(jié)合。Starlith1900i投影透鏡是卡爾蔡司公司生產(chǎn)的第五代193nm浸沒式透鏡和第二代反折射透鏡。該鏡頭提供了0.85到1.35的NA范圍，并支持26mmx33mm的場尺寸。
ASML浸沒式光刻機XT:1900的照明器支持在不同偏振模式下的連續(xù)可調(diào)照明設置，改善瞳孔參數(shù)，如橢圓度和遠心性。對于偏振和非偏振的使用，該系統(tǒng)為所有支持的照明模式提供了的效率。使用衍射光學元件(DOE)，常規(guī)照明的部分相干（σ）范圍可以在0.12到0.94之間變化，環(huán)形照明的最小環(huán)寬度為0.12，西格值為0.97，這與幾何西格值為1.0有關。XT：1900i的水解石浸沒技術(shù)是在XT：1700i中使用的技術(shù)的一個演變。流體密封方法是基于使用浸沒罩在鏡頭下的局部密封。除了浸沒罩的水密封外，晶片的熱控制是任何浸沒系統(tǒng)的一個關鍵方面。良好熱控制的兩個最重要的模塊是浸沒罩和晶圓臺。
