ASML KRF光刻機(jī)PAS5500/800提供0.80 數(shù)值孔徑 (NA)。該系統(tǒng)的分辨率為 120 納米,將用于批量生產(chǎn) 256 MB DRAM 和其他*的存儲(chǔ)設(shè)備。
“PAS 5500/800 將使這些的制造商能夠?qū)⑵鋵?duì)成熟 KrF 技術(shù)的投資擴(kuò)展到新一代內(nèi)存產(chǎn)品,”ASML 銷售執(zhí)行副總裁 Dave Chavoustie 說?!巴ㄟ^展示我們擴(kuò)展 PAS 5500 平臺(tái)和提供新工具的能力,我們的系統(tǒng)繼續(xù)提供非常高的生產(chǎn)力和低擁有成本?!?/span>
PAS 5500/800 于 2001 年 1 月發(fā)布,其吞吐量規(guī)格為每小時(shí) 115 200 毫米晶圓。該系統(tǒng)專為當(dāng)今 IC 的大批量處理以及下一代邏輯、ASIC和*存儲(chǔ)設(shè)備的研發(fā)和試生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。PAS 5500/800 將 Carl Zeiss StarLith800 0.8 NA、4X 縮小鏡頭的成像能力與 AERIAL II 照明技術(shù)相結(jié)合,可在關(guān)鍵尺寸和電路設(shè)計(jì)特征范圍內(nèi)優(yōu)化工藝范圍。該系統(tǒng)配備了 ASML的 ATHENA 晶圓對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和新開發(fā)的掩模版藍(lán)色對(duì)準(zhǔn),允許光化波長(zhǎng)掩模版對(duì)準(zhǔn),使單機(jī)重疊精度低于20納米。新的液位傳感器提高了聚焦精度,以增強(qiáng)過程控制和產(chǎn)量,特別是對(duì)于邊緣模具??蛻艨梢詮娜蟮?20 瓦 KrF 激光器供應(yīng)商中進(jìn)行選擇。ASML 對(duì)激光源的實(shí)施包括可變激光頻率控制,結(jié)合通過照明和投影光學(xué)器件的高光傳輸,確保更高的生產(chǎn)率和更低的運(yùn)營(yíng)成本。