ASMCO二手翻新RIE等離子蝕刻系統(tǒng) RIE-200NL-儀表網(wǎng)

公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

公司主營(yíng)實(shí)驗(yàn)室分析檢測(cè)儀器設(shè)備，以實(shí)驗(yàn)室整體建設(shè)為發(fā)展方向。公司目前涉及電子電器、醫(yī)藥生物、石油化工、食品、機(jī)械、新材料、環(huán)境、科研高校等諸多領(lǐng)域。聯(lián)合山東醫(yī)藥化工設(shè)計(jì)院，美國(guó)安捷倫、美國(guó)熱電、日本島津、江蘇天瑞等眾多品牌及多個(gè)***重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室從實(shí)驗(yàn)室布局設(shè)計(jì)出圖、基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)、儀器設(shè)備供應(yīng)、方法開(kāi)發(fā)建立、后期運(yùn)營(yíng)管理，形成完整的專業(yè)實(shí)驗(yàn)室建設(shè)體系，達(dá)到一站式服務(wù)，為眾多行業(yè)客戶提供更為完善的整體解決方案。
公司主營(yíng)產(chǎn)品分為四大類，光譜儀、色譜儀、質(zhì)譜儀和環(huán)境在線檢測(cè)。
能量色散X熒光光譜儀（EDX）、波長(zhǎng)色散X熒光光譜儀（WDX）、等離子體發(fā)射光譜儀(ICP)
、光電直讀光譜儀(OES）、原子吸收分光光度計(jì)(AAS)、原子熒光光譜儀(AFS)、拉曼光譜儀（Raman)、碳硫分析儀(CS)、紅外光譜儀、礦漿載流分析儀(OSA)、氣相色譜儀(GC)、液相色譜儀(LC)、氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（GC-MS)、液相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀（LC-MS)、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）、水質(zhì)在線分析儀（WAOL）；

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

RIE等離子蝕刻系統(tǒng)RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)

ASMCO二手翻新RIE等離子蝕刻系統(tǒng) RIE-200NL 產(chǎn)品詳情

RIE等離子蝕刻系統(tǒng) RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計(jì)可在?8 "晶圓或?220mm小晶圓的載盤上提供優(yōu)異的均勻性。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)精確的側(cè)壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。RIE等離子蝕刻系統(tǒng) RIE-200NL設(shè)計(jì)時(shí)尚、緊湊，只需最小的潔凈室空間。

主要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)

加工范圍：?220 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)

對(duì)稱的排空設(shè)計(jì)提高了蝕刻的均勻性。

工藝室通過(guò)負(fù)荷鎖定室與環(huán)境隔離，提高了工藝的可重復(fù)性，并可進(jìn)行腐蝕性氣體的化學(xué)反應(yīng)。

計(jì)算機(jī)觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友好的界面。

自動(dòng)壓力控制，可精確控制工藝壓力，不受氣體流量影響。

干式泵和系統(tǒng)布局便于維護(hù)。

RIE-200NL設(shè)計(jì)時(shí)尚、緊湊，只需最小的潔凈室空間。

應(yīng)用

GaN、GaAs、InP等化合物半導(dǎo)體的氯基蝕刻。

各種材料的蝕刻，如Si、SiO2、SiN、Poly-Si、Al、Mo、Pt、Polyimide等。

故障分析中的選擇性層蝕刻

ASMCO二手翻新RIE等離子蝕刻系統(tǒng) RIE-200NL

關(guān)鍵詞：觸摸屏

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