SAMCO二手現(xiàn)貨ICP刻蝕機(jī)RIE-400iP是用于?4 "晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，可對(duì)各種半導(dǎo)體和絕緣膜進(jìn)行高精度、高均勻性加工。采用的龍卷風(fēng)線圈的電感耦合等離子體(Inductively Coupled Plasma)作為放電形式，可產(chǎn)生均勻、高密度的等離子體。另外，可以根據(jù)加工材料和加工內(nèi)容選擇合適的等離子體源。
主要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"
可高效穩(wěn)定地應(yīng)用高射頻功率（2千瓦以上），并實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。
大流量排氣系統(tǒng)
排氣系統(tǒng)直接連接到反應(yīng)室，可以實(shí)現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。
端點(diǎn)監(jiān)測(cè)
干涉法和發(fā)射光譜終點(diǎn)監(jiān)測(cè)儀可用于目標(biāo)薄膜厚度的終點(diǎn)檢測(cè)。
易于維護(hù)的設(shè)計(jì)
TMP(渦輪分子泵)已集成在一個(gè)單元中，便于更換。
應(yīng)用
GaN、GaAs、InP等化合物半導(dǎo)體的高精度蝕刻。生產(chǎn)半導(dǎo)體激光器和光子晶體。
選項(xiàng)
干涉式端點(diǎn)監(jiān)測(cè)器 可進(jìn)行高精度的端點(diǎn)檢測(cè)，并可將蝕刻深度控制在所需深度。
