光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價(jià)比
型號：MDA-400M-6光刻機(jī)
廠家鏈接：.cn/
MDA-400M-6
易于操作和安裝，處理各種尺寸的基板，PLC操作，PC控制
?手動操作
?掩模版尺寸高達(dá)7英寸
?基板尺寸為6英寸圓形
?均勻光束尺寸6.25*6.25英寸
?光源：紫外線燈，350 W
?光束波長350~450 nm
?光束均勻性<±3%
?365 nm強(qiáng)度~25 mW/?
?手動對準(zhǔn)
?對準(zhǔn)精度1 um
?操作模式：軟、硬、真空接觸和接近
?工藝分辨率1 um@1 um PR厚度，真空接觸
?重量（kg）150
?尺寸（mm）1080（寬）*1060（深）*1580（高）
