光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
型號(hào)：MDA-80SA
廠家鏈接：.cn/
易于操作的用戶界面，PLC操作與PC控制，圖像抓取和數(shù)據(jù)日志，100多個(gè)程序配方，電動(dòng)操縱桿控制，電動(dòng)變焦顯微鏡和樣品臺(tái)
?操縱桿控制，半自動(dòng)
?掩模版尺寸高達(dá)9英寸
?基板尺寸6~8英寸
?均勻光束尺寸10.25*10.25英寸
?紫外線光源：紫外線燈，2 kW
?光束波長(zhǎng)350~450 nm
?光束均勻性<±5%
?365 nm強(qiáng)度~25 mW/?
?定位方法：操縱桿控制，半自動(dòng)
?對(duì)準(zhǔn)精度1 um
?操作模式：軟、硬、真空接觸和接近
?工藝分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接觸
