金硅面壘型半導(dǎo)體探測(cè)器
概述
我公司生產(chǎn)部分耗盡型金硅面壘半導(dǎo)體探測(cè)器,A 系列具有高能量分辨率、窗薄等特點(diǎn),適用于對(duì)能譜要求高的場(chǎng)合,如氡釷分析儀等,B 系列在 A 系列的窗前鍍上一個(gè)保護(hù)層,克服了易損壞、窗不能擦試等缺點(diǎn)適用于對(duì)能量分辨率要求不高,作為放射性強(qiáng)度測(cè)量的探測(cè)器。
技術(shù)規(guī)格
型號(hào) |
工作電壓 |
耗盡區(qū)厚度 μm | 對(duì)比ORTEC U-016-300-100 型 探測(cè)器 (Am-241 面源) 真空下測(cè)量能量分辯率 1.2? | 對(duì)比ORTEC U-016-300-100 型 探測(cè)器 (Am-241 面源) 真空下測(cè)量峰道址202 |
A-AS20 | 5~300VDC | 大于 1000 | 0.7~1.4? | 204~206 |
A-AS26 | 5~300VDC | 大于 1000 | 0.7~1.4? | 204~206 |
B-AS20 | 5~300VDC | 大于 1000 | 4.0~4.9? | 189-191 |
B-AS26 | 5~300VDC | 大于 1000 | 4.2~4.9? | 189-191 |