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  • SE-Mapping光譜橢偏儀

SE-Mapping光譜橢偏儀

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  • 型號
  • 品牌
  • 所在地
  • 更新時間2022-09-20
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 入駐年限1
  • 實名認證已認證
  • 產(chǎn)品數(shù)量19
  • 人氣值95
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沈陽科晶自動化設備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術有限公司、深圳市科晶智達科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自SYJ-150低速金剛石切割機誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設備潮流為目標的發(fā)展歷程。時至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結、分析等領域以及相關耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復合材料、生物材料等制備分析的全套需要?! ∩蜿柨凭Я⒆銍鴥?nèi)市場實際情況,以提供實用的產(chǎn)品為己任。產(chǎn)品的質(zhì)量、精度在向國外企業(yè)看齊的基礎上,產(chǎn)品的價格定位卻僅僅是其幾分之一。的性價比不僅吸引了眾多國內(nèi)客戶,而且令挑剔的外國客商也稱贊不已,產(chǎn)品遠銷于印度、馬來西亞、土耳其、波蘭、突尼斯、澳大利亞等國家,并大量出口于美國。  沈陽科晶一直致力于高等院校、研究所、生產(chǎn)企業(yè)的科研服務,即產(chǎn)品定位于研究市場,主要面向廣大高等院校、科研機構、實驗室以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。多年以來,已與全國眾多高校、研究院所建立了良好的合作、服務關系。其中北京大學、清華大學、浙江大學、哈爾濱工業(yè)大學、東北大學等高校,金屬研究所、上海硅酸鹽研究所、中國科學地質(zhì)與地球物理研究所等科研機構,中國航天工業(yè)集團公司、中國船舶重工集團公司、攀鋼集團有限公司等企業(yè)都是長期合作的榮譽客戶?! ∩蜿柨凭榱烁玫胤湛蛻簦瑢iT設立了開放式專業(yè)實驗室,配備了優(yōu)秀的專業(yè)技術人員。在這里,不僅可以提供親身的產(chǎn)品體驗環(huán)境,而且還可得到專業(yè)人員的操作指導。開設以來,制作的樣品達上千件,接待來訪客戶參觀百余次,其中包括多次外國友人的來訪。在此,沈陽科晶全體員工誠摯地歡迎您的到來,并希望您能提出寶貴的意見與建議。此外,沈陽科晶擁有優(yōu)質(zhì)、高效、專業(yè)的銷售咨詢、售后服務團隊,能夠為每一位客戶提供采購建議與方案、完善的使用指導與售后服務。使每一位客戶的需求得到滿足是沈陽科晶每個員工不懈努力的目標。  沈陽科晶一路走過的歷程,是為我國材料研究事業(yè)全力貢獻的歷程,是以實際行動將自己打造成國內(nèi)材料分析設備品牌的歷程,是與國外同行不斷縮小差距的歷程,是與廣大客戶相扶相持的成長歷程。雖一路充滿坎坷與荊棘,但堅持不懈的沈陽科晶人仍全力以赴的前行。秉承這份堅持,相信在不久的將來,沈陽科晶也將會成為國際市場上專業(yè)的、杰出的材料分析設備品牌,沈陽科晶的明天會更加燦爛輝煌。
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SE-Mapping光譜橢偏儀
SE-Mapping光譜橢偏儀 產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品簡介:SE-Mapping光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術,配置全自動Mapping測量模塊,通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應用OLED,LED,光伏,集成電路等工業(yè)應用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。

 

產(chǎn)品型號

SE-Mapping光譜橢偏儀

主要特點

1、全基片橢偏繪制化測量解決方案

2、支持產(chǎn)品設計以及功能模塊定制化,一鍵繪制測量

3、配置Mapping模塊,全基片自定義多點定位測量能力

4、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫,保證強大數(shù)據(jù)分析能力

5、采用氘燈和鹵素燈復合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

6、高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置,實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集

7、具備全基片自定義多點自動定位測量能力,提供全面膜厚檢測分析報告

8、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料

技術參數(shù)

1、自動化程度:固定角+ mapping

2、應用定位:檢測型

3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R等光譜

4、分析光譜:380-1000nm(可擴至193-2500nm)

5、單次測量時間:0.5-5s

6、重復性測量精度:0.01nm

7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200um

8、入射角調(diào)節(jié)方式:固定角

9、入射角范圍:65°

10、找焦方式:手動找焦

11、Mapping1程:300x300mm

12、支持樣件尺寸:至300mm

可選配件

3

真空泵

 

4

透射吸附組件

 

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