產(chǎn)品簡(jiǎn)介:ME-L是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù),包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等??蓱?yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu),半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu),新材料,新物理現(xiàn)象研究,平板顯示,光伏太陽(yáng)能,功能性涂料,生物和化學(xué)工程,塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。
雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素;配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊,軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),易上手、操作便捷;豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù),保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。
產(chǎn)品型號(hào) | ME-L全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀 | ||
主要特點(diǎn) | 1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,測(cè)量信息量更大,測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn) 3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置,可一次測(cè)量獲得全部穆勒矩陣的16個(gè)元素,相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測(cè)量信息 4、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜 5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù),涵蓋了目前絕大部分的光電材料 6、集成對(duì)納米光柵的分析,可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息 | ||
技術(shù)參數(shù) | 1、應(yīng)用:科研級(jí)/企業(yè)級(jí) 2、基本功能:Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜 3、分析光譜:380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-1650nm) 4、單次測(cè)量時(shí)間:1-8s 5、重復(fù)性測(cè)量精度:0.005nm 6、精度(直通測(cè)量空氣) 橢偏參數(shù):ψ=45±0.05°△=0±0.1° 穆勒矩陣:對(duì)角元素m=1±0.005;非對(duì)角元素m=0±0.005 7、光斑大?。捍蠊獍?-3mm;微光斑200μm | ||
可選配置 | 波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇 自動(dòng):45-90° 手動(dòng):55-75°(5°步進(jìn)),90° 固定:65° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺(tái):室溫一600C(供參考,按需定制) | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺(tái) |
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2 | Mapping擴(kuò)展模塊 |
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3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附組件 |
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