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  • 德國(guó)BUSCH廢氣處理系統(tǒng)

德國(guó)BUSCH廢氣處理系統(tǒng)

參考價(jià)
面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌
  • 所在地杭州市
  • 更新時(shí)間2022-08-17
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 入駐年限7
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量118
  • 人氣值1575
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是INFICON的*代理商,同時(shí)代理經(jīng)銷(xiāo)德國(guó)Leybold(萊寶)、Atlas Copco(阿*.科普柯)、Varian/Agilent(瓦里安/安捷倫)、瑞士Vogtlin(福特林)等品牌產(chǎn)品。我們致力于*真空技術(shù)的推廣、應(yīng)用,從中低真空、高真空、到超高真空,我們可以根據(jù)客戶的要求**合適的真空產(chǎn)品,提供*上等的真空解決方案,為廣大用戶改進(jìn)生產(chǎn)工藝,提升競(jìng)爭(zhēng)力提供產(chǎn)品服務(wù)和技術(shù)支持。同時(shí)為滿足更廣大的客戶要求,我們拓展了工業(yè)流量控制的產(chǎn)品服務(wù),根據(jù)客戶的工藝要求提供*優(yōu)化的流量控制解決方案。

   

目前,公司主要提供的業(yè)務(wù)有:

一、代理品牌的產(chǎn)品銷(xiāo)售,及技術(shù)支持服務(wù)。

二、為客戶提供上等的真空解決方案,包括:真空非標(biāo)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、真空檢漏技術(shù)方案、真空設(shè)備維修服務(wù);

三、流量控制解決方案:氣體、液體、特殊物質(zhì)流量控制方案;  

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德國(guó)BUSCH廢氣處理系統(tǒng)普旭真空為半導(dǎo)體、LCD及相關(guān)行業(yè)提供了應(yīng)用廣泛的新一代廢氣處理系統(tǒng)。高效的廢氣處理技術(shù)提供凈化到閾限值以下的氣體,同時(shí)滿足現(xiàn)有的和發(fā)展中的要求。
德國(guó)BUSCH廢氣處理系統(tǒng) 產(chǎn)品詳情

德國(guó)BUSCH廢氣處理系統(tǒng)

普旭真空為半導(dǎo)體、LCD及相關(guān)行業(yè)提供了應(yīng)用廣泛的新一代廢氣處理系統(tǒng)。高效的廢氣處理技術(shù)提供凈化到閾限值以下的氣體,同時(shí)滿足現(xiàn)有的和發(fā)展中的要求。

產(chǎn)品型號(hào)

Technology

Model

CapacitySLM

Applications

Gas

Flameless Catalytic

AFC

AFC 0500A

500

PE-CVD,

HDP-CVD,

ALD(NF3),

AMOLED 6G CVD

Flammable gases,water-soluble gases

AFC 2000A

2000

AMOLED 6G CVD

Wet-Plasma-WetAPW

APW 0500A

500

etch for PFCs

Burn-Wet

ABW)

ABW 0500A

500

CVD,etch for PFCs

Thermal-Wet

ATW)

ATW 0500A

500

ALD,CVD,DIEF

ATW 1000A

1000

ALD,CVD,DIFF,LCD

ATW 3500A

3500

MO-CVD,EPI,

LCD(7G)

ATW 4000A

4000

MO-CVD,EPI,

LCD(>8G)

Wet(AWE)

AWE 0500A

500

metal etch

water-soluble gases

AWE 0500AE

500

EPI(DCS,TCS)

Semi-Dry

(ASD)

ASD 0800A

800

etch for cost-saving

無(wú)焰催化處理技術(shù)(AFC

AFC是結(jié)合了無(wú)焰催化熱氧化和濕法處理技術(shù)的高溫催化劑系統(tǒng)。用于 集成到高效單一系統(tǒng)中,旨在減少易燃,水溶性氣體并使NF3可容納高達(dá)3000SLM的高氣流。

技術(shù)特點(diǎn):

??在半導(dǎo)體應(yīng)用和AMOLED流程中(使用大量生成氣體和NF3的粉末)非常適合CVD工藝(使用NF3作為吹掃氣體)。

??金屬蝕刻應(yīng)用的上佳解決方案。

??由于電加熱器和廢氣反應(yīng)熱,催化劑區(qū)域始終保持高溫,而沒(méi)有燃燒額外的燃料(LNG)。

??減少NOx生成

??粉末和水溶性氣體被捕獲在多級(jí)潤(rùn)濕區(qū)中

??降低了運(yùn)行成本

??易于維護(hù)和濾芯更換

??觸摸屏顯示

濕法-等離子-濕法處理技術(shù)(APW

APW是一個(gè)集成于單一系統(tǒng)的濕法-等離子-濕法處理技術(shù)的組合,是氧化物和多晶硅蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇。

技術(shù)特點(diǎn):

??新濕法等離子分離設(shè)計(jì)

??耐用的反應(yīng)堆等離子炬和電源設(shè)計(jì)

??具有高氣體DRE(%)的穩(wěn)定性能

??在廢氣進(jìn)入等離子反應(yīng)器之前,先將副產(chǎn)物和水溶性氣體進(jìn)行預(yù)濕區(qū)去除

??有效減少CF4,C2F6SF6PFCs

??核心零件的使用壽命長(zhǎng)和維護(hù)周期

??易于清潔和預(yù)防性維護(hù)

??觸摸屏顯示

燃燒-濕法處理(ABW

ABW是集成于單一系統(tǒng)中燃燒和濕法處理技術(shù)的組合,旨在有效減少PFCs,是CVD和蝕刻工藝應(yīng)用的理想選擇。

技術(shù)特點(diǎn):

??新快速燃燒濕室分離設(shè)計(jì)

??多個(gè)安全聯(lián)鎖

??燃燒室?guī)в兴浔跈C(jī)制的湍流火焰

??燃燒過(guò)程中可能產(chǎn)生的粉末和水溶性氣體被捕獲在多級(jí)潤(rùn)濕區(qū)

??有效減少CF4,C2F6,SF6PFCs

??性能穩(wěn)定

??運(yùn)行成本低

??易于清潔和預(yù)防性維護(hù)

??觸摸屏顯示

熱式-濕法處理技術(shù)(ATW

技術(shù)特點(diǎn):

ATW將電熱和濕法處理技術(shù)結(jié)合在一個(gè)系統(tǒng)中,該系統(tǒng)旨在容納高達(dá)4000SLM的總氣流,是重粉生成和腐蝕性應(yīng)用的理想選擇。

??新快速熱濕室分離設(shè)計(jì)

??多個(gè)安全聯(lián)鎖

??兩種減排方法的組合,即熱濕法(通過(guò)易燃和發(fā)火性氣體的無(wú)焰熱氧化改變工藝氣體的化學(xué)性質(zhì))和水溶解(對(duì)于水溶性氣體)

??易于清潔和預(yù)防性維護(hù)

??觸摸屏顯示

濕法處理技術(shù)(AWE

技術(shù)特點(diǎn):

AWE濕式洗滌器是適應(yīng)高H2和金屬粉末生成應(yīng)用的理想選擇。

??金屬蝕刻應(yīng)用的上佳解決方案

??極高的安全性和正常運(yùn)行時(shí)間

??四個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)室,配備智能入口防止堵塞功能和強(qiáng)大的文丘里管裝置

??內(nèi)置水循環(huán)系統(tǒng)

??降低了運(yùn)營(yíng)成本

??觸摸屏顯示


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